System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法技术_技高网

一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法技术

技术编号:42598101 阅读:18 留言:0更新日期:2024-09-03 18:10
本发明专利技术提供了一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,属于纳米材料制备技术领域。该三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,采用粉碎打磨设备将辉钼矿进行粉碎打磨加工,将粉碎后的MoS2粉末收集备用;将上述MoS2粉末放入焙烧炉中氧化焙烧,用氨水浸出钼酸铵溶液。除去溶液中的杂质;加入硝酸中和生成八钼酸铵沉淀。最后将八钼酸铵粉末溶于氨水中,再蒸发浓缩,得到仲钼酸铵,把得到的钼酸铵进行热分解,得到三氧化钼纳米结构敏感材料成品。该三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法有着更好的制备速度、批量以及质量,使得制得的三氧化钼微纳材料更为纯净和高效,能够推进三氧化钼微纳材料的应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及纳米材料制备,具体而言,涉及一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法


技术介绍

1、三氧化钼是一种常见的无机化合物,它是一种黄色固体,具有重要的应用价值。三氧化钼在催化剂领域具有广泛应用。三氧化钼可以作为催化剂的活性组分,用于催化氧化反应、脱硫反应、脱氮反应等。其高催化活性和稳定性使其成为重要的工业催化剂。由于三氧化钼特殊的结构和性质,三氧化钼可以用于制备各种功能材料,如光催化材料、电化学材料等。例如,将三氧化钼与其他材料复合,可以制备出高效的光催化剂,用于水分解产氢或有机物降解等领域。三氧化钼还可以用于制备光学材料和电子材料。由于其具有较大的光学吸收和较小的折射率,可以用于制备太阳能电池、显示器件等。在电子材料方面,三氧化钼可以用于制备薄膜晶体管、电子器件等。

2、三氧化钼纳米结构敏感材料在制备时,难以有着更好的制备方法提升三氧化钼纳米材料的制备速度、批量以及质量,以推进三氧化钼微纳材料的应用。


技术实现思路

1、为了弥补以上不足,本专利技术提供了一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,旨在改善现有技术中难以有着更好的制备方法提升三氧化钼纳米材料的制备速度、批量以及质量的问题。

2、本专利技术是这样实现的:

3、本专利技术提供一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,包括如下步骤:

4、步骤1:获取mos2粉末,采用粉碎打磨设备将辉钼矿进行粉碎打磨加工至60~80目,将粉碎后的mos2粉末收集备用;

5、步骤2:制取钼酸铵溶液,将步骤1中mos2粉末放入焙烧炉中于500~550℃氧化焙烧,用氨水浸出钼酸铵溶液;

6、步骤3:过滤除杂,将步骤2中获得的钼酸铵溶液进行过滤,除去溶液中的杂质;

7、步骤4:生成沉淀,将步骤3中去除杂质的钼酸铵溶液加热至40~45℃,在搅拌下加入硝酸中和至ph=1.4~1.6,生成八钼酸铵沉淀;

8、步骤5:将步骤4中得到的八钼酸铵沉淀再次进行过滤,后使用脱水设备进行脱水处理,将获得的脱水后的八钼酸铵粉末收集备用;

9、步骤6:将上述步骤5中收集的八钼酸铵粉末溶于70~80℃的氨水中,再蒸发浓缩,得到仲钼酸铵;

10、步骤7:将上述步骤6中得到的钼酸铵在550~600℃下进行热分解,得到三氧化钼纳米结构敏感材料成品。

11、在本专利技术的一种实施例中,所述步骤6中得到的钼酸铵浓度为0.07~0.1mol/l。

12、在本专利技术的一种实施例中,所述步骤5中采用离心脱水机将八钼酸铵沉淀中的水分脱除。

13、在本专利技术的一种实施例中,所述步骤4中的钼酸铵溶液与硝酸混合搅拌反应时间为3~4h。

14、在本专利技术的一种实施例中,所述步骤7中的三氧化钼纳米结构敏感材料直径范围为45~60nm。

15、在本专利技术的一种实施例中,所述步骤4中加入硝酸的浓度为9~12mol/l。

16、在本专利技术的一种实施例中,所述步骤2中焙烧炉的焙烧时间为3~4h。

17、本专利技术的有益效果是:本专利技术通过上述设计得到的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,采用粉碎打磨设备将辉钼矿进行粉碎打磨加工,将粉碎后的mos2粉末收集备用;将上述mos2粉末放入焙烧炉中氧化焙烧,用氨水浸出钼酸铵溶液。把获得的钼酸铵溶液进行过滤,除去溶液中的杂质;将上述去除杂质的钼酸铵溶液加热,在搅拌下加入硝酸中和生成八钼酸铵沉淀。然后再将八钼酸铵沉淀再次进行过滤,后使用脱水设备进行脱水处理,将获得的脱水后的八钼酸铵粉末。最后将八钼酸铵粉末溶于氨水中,再蒸发浓缩,得到仲钼酸铵,把得到的钼酸铵进行热分解,得到三氧化钼纳米结构敏感材料成品。该三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法有着更好的制备速度、批量以及质量,使得制得的三氧化钼微纳材料更为纯净和高效,能够推进三氧化钼微纳材料的应用。

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【技术保护点】

1.一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤6中得到的钼酸铵浓度为0.07~0.1mol/L。

3.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤5中采用离心脱水机将八钼酸铵沉淀中的水分脱除。

4.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤4中的钼酸铵溶液与硝酸混合搅拌反应时间为3~4h。

5.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤7中的三氧化钼纳米结构敏感材料直径范围为45~60nm。

6.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤4中加入硝酸的浓度为9~12mol/L。

7.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤2中焙烧炉的焙烧时间为3~4h。

【技术特征摘要】

1.一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤6中得到的钼酸铵浓度为0.07~0.1mol/l。

3.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤5中采用离心脱水机将八钼酸铵沉淀中的水分脱除。

4.根据权利要求1所述的一种三氧化钼纳米结构敏感材料的制备方法,其特征在于,所述步骤4中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:王福章张永兴
申请(专利权)人:徐州智信新材料研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

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