一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法技术

本发明专利技术公开了一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，根据待校正离轴凹抛物面的基本参数，构建在母镜坐标系下该待校正离轴凹抛物面的曲面方程；在待校正离轴凹抛物面利用无像差点法自准直检测光路中，计算CCD投影面到待校正离轴凹抛物面的坐标变换关系；将待校正离轴凹抛物面上像素点线性变换至CCD投影面，得到投影面坐标数据；根据坐标变换关系对投影面坐标数据进行坐标变换，并对坐标变换后的数据进行插值处理。本发明专利技术利用CCD线性投影面和离轴抛物面工件表面之间的坐标投影变换结合少数标记点实现无像差点法的投影畸变校正，可用于实际CCOS机床加工，在一定精度内提升了校正效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学加工领域，特别涉及一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法。

技术介绍

1、随着空间探测、空间激光通信的发展，大口径离轴非球面发挥着重要作用，高精度加工和面形检测技术也得到了迅速发展。其中离轴四反光学系统是引力波探测发展的重要方向，其中的反射主镜有着高精度加工指标。离轴非球面反射镜可以有效避免光学系统中心遮拦并改善相应的衍射问题，提高成像质量。目前高精度大口径非球面的加工方法一般采用基于计算机控制光学表面成形技术原理(computer controlled optical surfacing，ccos)的小磨头设备或磁流变、离子束等，通过计算机确定去除函数控制去除量来实现对光学元件表面抛光的定量去除。通常需要配合完善的检测数据才能达到较好的收敛效果，实现高精度的光学元件制造。现有畸变校正方法中，标记点法需要足够数量的标记点才能满足高精度要求，光线追迹法计算量大、数据处理过程比较复杂。

技术实现思路

1、专利技术目的：针对以上问题，本专利技术目的是提供一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，其特征在于，步骤1中待校正离轴凹抛物面为二次圆锥曲面，以该二次圆锥曲面母镜焦点为原点的右手坐标系O-XYZ下的曲面方程表达式为：

3.根据权利要求2所述的一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，其特征在于，步骤2实现过程如下：

4.根据权利要求3所述的一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，其特征在于，步骤3的实现过程如下：

【技术特征摘要】

1.一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，其特征在于，步骤1中待校正离轴凹抛物面为二次圆锥曲面，以该二次圆锥曲面母镜焦点为原点的右手坐标系o-x...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨晓飞，罗志超，何煜，李瑶艳，邵传强，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：