【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光子集成干涉成像，尤其涉及一种光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法。
技术介绍
1、现有的光子集成干涉成像系统以光谱通道数作为设计光子集成干涉成像系统的最优光谱通道的评价标准，即光谱通道的数量越多，则光子集成干涉成像系统的光谱通道越优，但是这种设计准则并没有考虑到干涉阵列的探测特性以及待测目标的频谱分布特性，所以传统的光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法不仅设计难度较大，且对工艺制作的要求也较高。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术创造旨在提供一种光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，以解决现有的光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法的光谱通道设计冗余的问题，有效提高了光子集成干涉成像系统的设计效率。
2、为达到上述目的，本专利技术创造的技术方案是这样实现的：
3、一种光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，具体包括如下步骤：
4、s1：根据待测目标的频谱分布，对光子集成干涉成像系统的干涉阵列进行设计；
...【技术保护点】
1.一种光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，其特征在于：具体包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，其特征在于：在所述步骤S1中，根据所述待测目标的频谱分布，对应设计所述干涉阵列的干涉臂数量、单个干涉臂上的子孔径数和所述干涉阵列的最大基线长度。
3.根据权利要求1所述的光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，其特征在于：在步骤S2中，所述干涉阵列的各干涉基线对所述待测目标的频谱的采集数量与对所述光子集成干涉成像系统设定的光谱通道数相等。
4.根据权利要求1所述的光子集成干涉成像...
【技术特征摘要】
1.一种光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，其特征在于：具体包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，其特征在于：在所述步骤s1中，根据所述待测目标的频谱分布，对应设计所述干涉阵列的干涉臂数量、单个干涉臂上的子孔径数和所述干涉阵列的最大基线长度。
3.根据权利要求1所述的光子集成干涉成像系统的最优光谱通道设计方法，其特征在于：在步骤s2中，所述干涉阵列的各干涉基线对所述待测目标的频谱的采集数量与对所述光子集...
【专利技术属性】
技术研发人员：王鹍，朱友强，刘欣悦，安其昌，杨晨，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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