超材料调控元件测试系统技术方案

技术编号:42548960 阅读:28 留言:0更新日期:2024-08-27 19:50
本技术属于超材料测试技术领域,涉及一种超材料调控元件测试系统,包括测试夹具、外部场源、待测调控元件和矢量网络分析仪,矢量网络分析仪与测试夹具电性连接,待测调控元件置于测试夹具内部,外部场源置于测试夹具外部,外部场源将外部信号输入待测调控元件,矢量网络分析仪测量待测调控元件受外部信号影响下的测试系统的谐振参数,待测调控元件为对电压敏感或对光辐照强度敏感的调控元件,外部场源为直流可调电压源或光源。本技术测试系统结构简单,操作方便,测试结果准确无误。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于超材料测试,具体涉及超材料调控元件测试系统


技术介绍

1、超表面作为一种二维结构的超材料,在电磁散射调控方面具有良好的研究价值和应用潜力。在光学波段,超表面能够用于设计新型的超薄光学器件,如超透镜、分光器、全息透镜等;在毫米波及太赫兹波段,超表面能够用于实现电磁伪装、电磁隐身、定向辐射等。

2、超表面的电磁散射调控的本质是利用人工二维结构引入的突变相位来实现相位补偿。通过合理地排列这些突变相位可以改变电磁波束的波阵面,从而实现调控电磁波束的传播方向。超表面的基本单元类型主要有传输相位型、电路相位型和几何相位型。其中,电路相位型是在微波频段最常见的设计方式。当电磁波照射到电路相位型超表面,会在金属图案层产生等效的电容电感,从而影响超表面的相位突变,实现电磁波的调控。对于超表面的相位特性分析必须要从反射系数出发,而自由空间的特征微波阻抗已经是确定的值,介质基板和金属背板的微波阻抗也是确定的,只有图案层的微波阻抗是可以自由调控的。对超表面图案层微波阻抗的调节可以实现突变相位的控制,从而实现电磁波的自由调控。

>3、现阶段应用于该本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.超材料调控元件测试系统,其特征在于,包括测试夹具、外部场源、待测调控元件和矢量网络分析仪,所述矢量网络分析仪与测试夹具电性连接,所述待测调控元件置于测试夹具内部,所述外部场源置于测试夹具外部,所述外部场源将外部信号输入到待测调控元件,所述矢量网络分析仪测量待测调控元件受外部信号影响下的测试系统的谐振参数,通过谐振参数计算出待测调控元件受外部信号影响下的微波阻抗;所述待测调控元件为对电压敏感或对光辐照强度敏感的调控元件,所述外部场源为直流可调电压源或光源。

2.根据权利要求1所述的超材料调控元件测试系统,其特征在于,所述测试夹具采用重入式同轴腔,所述重入式同轴腔内的导体与短...

【技术特征摘要】

1.超材料调控元件测试系统,其特征在于,包括测试夹具、外部场源、待测调控元件和矢量网络分析仪,所述矢量网络分析仪与测试夹具电性连接,所述待测调控元件置于测试夹具内部,所述外部场源置于测试夹具外部,所述外部场源将外部信号输入到待测调控元件,所述矢量网络分析仪测量待测调控元件受外部信号影响下的测试系统的谐振参数,通过谐振参数计算出待测调控元件受外部信号影响下的微波阻抗;所述待测调控元件为对电压敏感或对光辐照强度敏感的调控元件,所述外部场源为直流可调电压源或光源。

2.根据权利要求1所述的超材料调控元件测试系统,其特征在于,所述测试夹具采用重入式同轴腔,所述重入式同轴腔内的导体与短路面之间留有用于加载待测调控元件的空隙。

3.根据权利要求2所述的超材料调控元件测试系统,其特征在于,所述重入式同轴腔的短路面上设置有两个小孔,所述直流可调电压源通过直流线穿过重入式同轴...

【专利技术属性】
技术研发人员:张雨钟文旭田平邱桂花张军英刘霞王威刘新郭国建胡倩倩黄辉
申请(专利权)人:山东非金属材料研究所
类型:新型
国别省市:

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