反射阵列制造技术

技术编号:42546989 阅读:31 留言:0更新日期:2024-08-27 19:48
一种反射阵列具有:至少1个公共电极,前述公共电极配置于电波的入射侧;至少1个偏压电极,前述偏压电极以与至少1个公共电极的背面重叠的方式配置;偏压信号线,前述偏压信号线配置于至少1个公共电极的背面侧,并且连接于至少1个偏压电极;和液晶层,前述液晶层位于至少1个公共电极与至少1个偏压电极之间。至少1个公共电极具有恒定电位,经由偏压信号线对至少1个偏压电极施加使液晶层的介电常数变化的偏置电压。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术的一个实施方式涉及能够控制入射波的散射方向的反射阵列(reflectarray)的电极构造。


技术介绍

1、反射阵列具有使入射波向所期望的方向散射的功能,例如,在使电波向高层建筑的低处之间的电波难以到达的地带(无线电静默区)散射时使用。作为反射阵列,例如公开了以下构成:主阵列元件(偶极元件)及子阵列元件(无源元件)与公共电极(接地电极)夹着电介质基板而设置,并且子阵列元件接近主阵列元件而配置(专利文献1);在阵列元件与公共电极(接地电极)夹着电介质基板的构造中,公共电极具有周期性的环形(专利文献2)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2011-019021号公报

5、专利文献2:日本特开2010-226695号公报


技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、若将相当于反射阵列的电介质基板的部分置换成液晶层,则能够利用液晶材料的介电常数各向异性,能够使反射波的指向性可变。为了使介电常数变化,需要对液晶层施加电压,因本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种反射阵列,其特征在于,具有:

2.如权利要求1所述的反射阵列,其中,所述至少1个公共电极具有矩形的图案或长度相互不同的多个平行偶极图案。

3.如权利要求2所述的反射阵列,其中,

4.如权利要求3所述的反射阵列,其具有将所述多个公共电极相互连接的公共布线。

5.如权利要求3所述的反射阵列,其中,所述多个偏压电极的间隔比所述多个公共电极的间隔窄。

6.如权利要求3所述的反射阵列,其设置有填埋所述多个偏压电极之间的绝缘部件。

7.如权利要求3所述的反射阵列,其中,所述多个偏压电极经由小电容电容器接地。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种反射阵列,其特征在于,具有:

2.如权利要求1所述的反射阵列,其中,所述至少1个公共电极具有矩形的图案或长度相互不同的多个平行偶极图案。

3.如权利要求2所述的反射阵列,其中,

4.如权利要求3所述的反射阵列,其具有将所述多个公共电极相互连接的公共布线。

5.如权利要求3所述的反射阵列,其中,所述多个偏压电极的间隔比所述多个公共电极的间隔窄。

6.如权利要求3所述的反射阵列,其设置有填埋所述多个偏压电极之间的绝缘部件。

7.如权利要求3所述的反射阵列,其中,所述多个偏压电极经由小电容电...

【专利技术属性】
技术研发人员:冲田光隆新木盛右冈真一郎铃木大一陈强佐藤弘康藤掛英夫
申请(专利权)人:株式会社日本显示器
类型:发明
国别省市:

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