一种高精度晶片角度测量设备制造技术

技术编号:42522908 阅读:31 留言:0更新日期:2024-08-27 19:34
本技术涉及晶片测量技术领域,具体公开了一种高精度晶片角度测量设备,包括活动盘,活动盘一侧设有指针,活动盘上方设有刻度盘,刻度盘上方设有高度架,高度架内套设有夹具托,高度架一侧嵌设有高度调节器,高度调节器嵌设于高度架内的一端设有水平锥形齿轮,夹具托内套设有垂直丝杆,垂直丝杆与夹具托螺纹连接,垂直丝杆下设有垂直锥形齿轮,垂直锥形齿轮与水平锥形齿轮啮合,夹具托上方设有夹具,夹具包括横置轨道,横置轨道上设有横置丝杆,横置丝杆外套设有夹片;本技术在采用双圈反射的方式进行镜片角度测量的同时,增加了调整晶片高度的方式,提升了对X光照射晶片位置的准确度,进而改善了测量晶片角度测量的精确度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶片测量,特别涉及了一种高精度晶片角度测量设备


技术介绍

1、在材料科学、晶体学和化学领域中,经常需要确定晶体样品的晶向、晶面和晶格参数,以便理解晶体的结构和性质,晶片测角通常使用x射线衍射的技术,x射线与晶体相互作用后会产生衍射图案,通过测量和分析这些衍射图案,研究人员可以确定晶体的结构和取向,现代的晶片测角仪器通常配备了高精度的旋转和倾斜装置,以便精确地调整晶体样品的角度和取向。

2、然而,现有的晶片角度测量设备通常仅能调整单一平面上电荷耦合探测器的角度对晶片进行测量,这种调节方式工作效率低,对晶体角度的测量精确度较差。

3、本申请需要解决的技术问题是:如何提高晶片角度测量设备的精确度。


技术实现思路

1、为了克服现有技术的不足,本技术的目的在于提供一种高精度晶片角度测量设备,可以提高测量晶片角度的精确度、提高晶片测量效率、适用性较广。

2、本技术所采用的技术方案为:一种高精度晶片角度测量设备,包括活动盘,活动盘一侧设有指针,活动盘上方设有刻度盘,刻度盘上方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高精度晶片角度测量设备,其特征在于,包括活动盘(5),所述活动盘(5)一侧设有指针(6),所述活动盘(5)上方设有刻度盘(7),所述刻度盘(7)上方设有高度架(8),所述高度架(8)内套设有夹具托(11),所述高度架(8)一侧嵌设有高度调节器(9),所述高度调节器(9)嵌设于高度架(8)内的一端设有水平锥形齿轮(10),所述夹具托(11)内套设有垂直丝杆(12),所述垂直丝杆(12)与夹具托(11)螺纹连接,所述垂直丝杆(12)下设有垂直锥形齿轮(13),所述垂直锥形齿轮(13)与水平锥形齿轮(10)啮合,所述夹具托(11)上方设有夹具(14),所述夹具(14)包括横置轨道(15...

【技术特征摘要】

1.一种高精度晶片角度测量设备,其特征在于,包括活动盘(5),所述活动盘(5)一侧设有指针(6),所述活动盘(5)上方设有刻度盘(7),所述刻度盘(7)上方设有高度架(8),所述高度架(8)内套设有夹具托(11),所述高度架(8)一侧嵌设有高度调节器(9),所述高度调节器(9)嵌设于高度架(8)内的一端设有水平锥形齿轮(10),所述夹具托(11)内套设有垂直丝杆(12),所述垂直丝杆(12)与夹具托(11)螺纹连接,所述垂直丝杆(12)下设有垂直锥形齿轮(13),所述垂直锥形齿轮(13)与水平锥形齿轮(10)啮合,所述夹具托(11)上方设有夹具(14),所述夹具(14)包括横置轨道(15),所述横置轨道(15)上设有横置丝杆(17),所述横置丝杆(17)外套设有夹片(16)。

2.根据权利要求1所述的高精度晶片角度测量设备,其特征在于,所述活动盘(5)侧面设有弧形轨道(18),所述弧形轨道(18)外套设有滑动件(19),所述滑动件(19)上设有电荷耦合探测器(20)。

3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐为民楼少兰
申请(专利权)人:金华鸿瑞电子有限公司
类型:新型
国别省市:

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