一种基于全局复位释放曝光的曝光控制方法及其曝光装置制造方法及图纸

技术编号:42521713 阅读:29 留言:0更新日期:2024-08-27 19:33
本发明专利技术公开了一种基于全局复位释放曝光的曝光控制方法及其控制装置,曝光控制方法包括:在第K帧曝光之前,判断第K‑1帧的曝光图像是否在理想曝光灰度范围内,若为否,增加曝光检测帧,获取曝光偏小帧的曝光图像,将曝光光带最大值为中心,偏离最大值预设范围内的曝光区域为曝光筛选区域;将曝光偏大帧的曝光参数与最大曝光功率的比值与相邻曝光行之间的时间间隔的总和作为曝光检测帧中每一行的行曝光;设置曝光检测帧中每一行的曝光功率呈线性递增,按照曝光检测帧的曝光参数同时曝光,以曝光检测图像中满足理想曝光灰度范围的第k行曝光参数进行第K帧曝光,可以减少CMOS曝光调节所需要的时间,大幅提高曝光的精度和位移测量精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术实施例涉及高精度检测,尤其涉及一种基于全局复位释放曝光的曝光控制方法及其曝光装置


技术介绍

1、目前,激光位移传感器和激光轮廓传感器普遍应用三角反射法的原理,即激光二极管发出的激光束照射到被测物体表面,经慢反射回来的光线通过一组透镜,投射到感光元件矩阵上。根据被测物体表面距离激光光源的不同,在感光元件矩阵上的成像位置也会有差异,通过计算感光元件矩阵上成像光斑的中心,即可确认被测物体的表面位移。

2、由于不同物体表面的漫反射率差异极大,在同样的激光功率和曝光设置下,测量不同物体时cmos(complementary metal oxide semiconductor,cmos)相机接受到的光强也有很大不同。激光位移(轮廓)传感器的测距原理是依照感光元件矩阵上成像光斑的中心来确认被测物体的表面位移,因此需要通过动态的曝光调整来获得高质量的成像,避免因为曝光不足或过曝引起的光斑变形,进而导致测量精度的损失。

3、现有的曝光算法一般需要多帧曝光尝试来确认合适的曝光参数(如激光功率、曝光时间),当激光位移(轮廓)传感器扫描材质、颜本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于全局复位释放曝光的曝光控制方法,用于控制摄像头传感器的曝光参数,其特征在于,所述曝光控制方法包括:

2.根据权利要求1所述的曝光控制方法,其特征在于,获取曝光检测帧中满足理想曝光灰度范围的第k行的曝光参数,以曝光检测帧中第k行的曝光参数为理想曝光参数,包括:

3.根据权利要求1所述的曝光控制方法,其特征在于,调整第K-1帧的曝光参数为预设倍数后同时曝光,获取曝光偏大帧和曝光偏小帧,包括:

4.根据权利要求3所述的曝光控制方法,其特征在于,所述曝光偏大帧的曝光参数为所述曝光偏小帧的曝光参数的2倍。

5.根据权利要求3所述的曝光控制...

【技术特征摘要】

1.一种基于全局复位释放曝光的曝光控制方法,用于控制摄像头传感器的曝光参数,其特征在于,所述曝光控制方法包括:

2.根据权利要求1所述的曝光控制方法,其特征在于,获取曝光检测帧中满足理想曝光灰度范围的第k行的曝光参数,以曝光检测帧中第k行的曝光参数为理想曝光参数,包括:

3.根据权利要求1所述的曝光控制方法,其特征在于,调整第k-1帧的曝光参数为预设倍数后同时曝光,获取曝光偏大帧和曝光偏小帧,包括:

4.根据权利要求3所述的曝光控制方法,其特征在于,所述曝光偏大帧的曝光参数为所述曝光偏小帧的曝光参数的2倍。

5.根据权利要求3所述的曝光控制方法,所述曝光检测帧的最大曝光调节帧数r为的数值向上取整数;

6.根据权利要求3所述的曝光控...

【专利技术属性】
技术研发人员:王威姚文政
申请(专利权)人:光子深圳精密科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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