【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于研磨，具体地说，本专利技术涉及一种研磨夹具。
技术介绍
1、工艺腔室部件包括反应腔室内的衬底托盘、喷淋头、挡板、电极等，这些部件直接参与半导体制造过程，如沉积、刻蚀等，易受到化学侵蚀、物理磨损以及粒子污染，需定期清理、修复或更换，石英部件：如石英舟、石英管、石英窗等，用于高温、高纯度环境，易受热应力、化学侵蚀和微粒撞击影响，需定期检查其完整性并适时更换，产品表面粗糙度直接影响其功能性和使用寿命，对于精密机械零件，如轴承、液压元件、密封件等，较低的表面粗糙度可以减小摩擦、降低磨损、提高运转精度和稳定性，延长使用寿命，对于光学元件、半导体器件等高科技产品，表面粗糙度直接影响光洁度、反射率、透射率等光学性能。
2、在实际生产制造过程中，在使用立面磨床对产品表面进行磨面控制粗糙度的过程中，因立面磨床固定产品的方式是靠磁吸平面调整磁力吸附铁质垫块，通过垫块水平夹持力固定产品，磁力的开启会吸附一些铁质碎屑在磁吸面上，产品加工过程中，产品的背面因放在磁吸面上旋转与碎屑摩擦，会造成产品表面划伤，最终会使产品报废或者返工。>
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【技术保护点】
1.一种研磨夹具，其特征在于：包括加工平台(1)，所述夹具(2)设置在加工平台(1)上，所述夹具(2)内装夹有产品(3)，所述产品(3)与加工平台(1)之间存在间隙。
2.根据权利要求1所述的一种研磨夹具，其特征在于：所述夹具(2)包括设置在加工平台(1)上的底座(21)和设置在底座(21)上的放置台(22)，所述底座(21)的外侧设有夹持产品(3)的夹块(23)，所述产品(3)放置在放置台(22)上。
3.根据权利要求2所述的一种研磨夹具，其特征在于：所述底座(21)分为底环(211)和设置在底环(211)外侧的侧片(212)，所述底环(21...
【技术特征摘要】
1.一种研磨夹具，其特征在于：包括加工平台(1)，所述夹具(2)设置在加工平台(1)上，所述夹具(2)内装夹有产品(3)，所述产品(3)与加工平台(1)之间存在间隙。
2.根据权利要求1所述的一种研磨夹具，其特征在于：所述夹具(2)包括设置在加工平台(1)上的底座(21)和设置在底座(21)上的放置台(22)，所述底座(21)的外侧设有夹持产品(3)的夹块(23)，所述产品(3)放置在放置台(22)上。
3.根据权利要求2所述的一种研磨夹具，其特征在于：所述底座(21)分为底环(211)和设置在底环(211)外侧的侧片(212)，所述底环(211)设置在加工平台(1)上，所述侧片(212)呈圆周分布在底环(211)的侧边，所述夹块(23)设置在相邻的侧片(212)之间。
4.根据去哪里要求2或3所述的一种研磨夹具，其特征在于：所述加工平台(1)为磁吸平台，所述夹块(23)和底座(21)吸附在磁吸平台上，所述底座(21)为磁吸垫块，所述夹块(23)与加工平台(1)相贴合的一侧为铁制块。
5.根据权利要求4所述的一种研磨夹具，其特征在于：所述夹块(23)分为嵌入块(231)和固定块(232)，所述嵌入块(231)吸附在加工平台(...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘如飞，吴锁成，王成，
申请(专利权)人：芜湖晶纯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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