一种气帘结构及其喷头制造技术

本发明专利技术公开了一种气帘结构，其包括:气帘主体，所述气帘主体内设有进气通道和分气通道，所述进气通道连通于所述分气通道；所述气帘主体具有一出气端，所述分气通道朝向所述出气端倾斜延伸，且至少在所述分气通道的出气口处形成环形连通，以致从所述出气口输出的气流形成外扩辐射状的气帘。其分气通道为向出气端倾斜延伸的环形腔结构，经过该分气通道的气体会形成伞状气帘，调节进气量或进气速度即可改变气帘的大小，以致可以适用于不同大小的气腔。此外，该气帘结构的出气端尺寸较小，可降低工艺气体与分散器接触而影响活性的概率，保证良好的沉积质量。本发明专利技术还公开了一种喷头，该喷头包括气帘结构，其喷淋更为均匀，沉积质量更高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及喷头，尤其涉及一种用于气体喷头的气帘结构及其喷头。

技术介绍

1、在半导体制备工艺中，常用到气体喷头将工艺气体均匀喷射至基板或晶圆的表面以化学气相沉积薄膜。为了使进入喷头的气体能够以面状均匀喷出，一般在喷头的气腔内设置气体分散器，分散器的作用是将输入的气体打散形成均匀的气流从喷孔中喷出。现有技术中，分散器一般为锥形结构件，气流受锥形侧壁的作用，改变流向形成更大的面，最后从喷孔喷出。但是现有分散器结构存在以下弊端：分散器的尺寸是固定的，其分散气体效果受到其外形尺寸影响，且匀气效果不可调节。针对不同大小腔体的喷头均需要对应设计分散器的尺寸，并进行大量的实验验证其匀气效果是否符合要求，耗时更长。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种气帘结构及其喷头，以解决现有喷头的分散器无法调节匀气效果的技术问题。

2、为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：

3、第一方面，本专利技术的实施例提供了一种气帘结构，其包括:气帘主体，所述气帘主体内设有进气通道和分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气帘结构，其特征在于，包括:气帘主体，所述气帘主体内设有进气通道和分气通道，所述进气通道连通于所述分气通道；所述气帘主体具有一出气端，所述分气通道朝向所述出气端倾斜延伸，且至少在所述分气通道的出气口处形成环形连通，以致从所述出气口输出的气流形成外扩辐射状的气帘。

2.根据权利要求1所述的气帘结构，其特征在于，所述分气通道为朝向所述出气口倾斜延伸的全连通环形腔。

3.根据权利要求1所述的气帘结构，其特征在于，所述分气通道具有进气端，所述分气通道的通道高度由所述进气端向所述出气口方向逐渐降低设置。

4.根据权利要求1所述的气帘结构，其特征在于，所述...

【技术特征摘要】

1.一种气帘结构，其特征在于，包括:气帘主体，所述气帘主体内设有进气通道和分气通道，所述进气通道连通于所述分气通道；所述气帘主体具有一出气端，所述分气通道朝向所述出气端倾斜延伸，且至少在所述分气通道的出气口处形成环形连通，以致从所述出气口输出的气流形成外扩辐射状的气帘。

2.根据权利要求1所述的气帘结构，其特征在于，所述分气通道为朝向所述出气口倾斜延伸的全连通环形腔。

3.根据权利要求1所述的气帘结构，其特征在于，所述分气通道具有进气端，所述分气通道的通道高度由所述进气端向所述出气口方向逐渐降低设置。

4.根据权利要求1所述的气帘结构，其特征在于，所述出气口延伸至所述出气端的端面或延伸至靠近所述出气端的气帘主体侧壁上。

5.根据权利要求1至4任意一项所述的气帘结构，其特征在于，所述分气通道为圆锥形腔。

6.根据权利要求5所述的气帘结构，其特征在于，所述进气通道为开设于所述气帘主体内的圆环形腔，所述圆环形腔的下端口连通于所述圆锥形腔的上端口。

7.根据权利要求6所述的气帘结构，其特征在于，所述圆环形腔为圆柱腔或圆锥腔。

8.根据权利要求5所述的气帘结构，其特征在于，所述气帘主体的侧壁上还开设有若干连通所述进气通道的分气孔。

9.根据权利要求8所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵坤，吴凤丽，杨华龙，朱涛，卜夺夺，王随虎，
申请(专利权)人：拓荆科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：