一种偏振不敏感红外超构透镜及其制备方法技术

技术编号:42460915 阅读:46 留言:0更新日期:2024-08-21 12:49
本发明专利技术提供了一种偏振不敏感红外超构透镜及其制备方法,涉及超构透镜成像技术领域。该偏振不敏感红外超构透镜的所述红外超构透镜本体开设有多个盲孔,多个所述盲孔用于调控入射光相位,所述盲孔的直径根据所述红外超构透镜本体的工作波段确定。上述结构是在其表面开设盲孔,用于调控入射光相位,而非制作柱状结构,将柱状结构设置于基体材料表面,可见,上述结构的稳定性较好,可避免柱状结构在加工过程容易断裂,防止成像质量下降,可见,本实施例提出的红外超构透镜结构不仅适用于电子束刻蚀等常用的超构透镜加工方式,还适用于雕刻维纳柱状结构精度低,加工难度大,而打孔精度高的非秒激光刻蚀等维纳结构加工方式。

【技术实现步骤摘要】

本说明书涉及超构透镜成像,具体而言,涉及一种偏振不敏感红外超构透镜及其制备方法


技术介绍

1、超构透镜是近十年发展起来的一种新型光学透镜成像方式,超构透镜相比于传统透镜在轻量化方面具有绝对优势,可以大幅度降低传统成像系统的重量和体积,特备适用于无人机机载相机、小型侦察相机、手机镜头等对重量和空间要求严苛的领域。虽然超透透镜在宽波段消色差、聚焦效率、大视场成像等方面存在不足,但其潜在的商业价值十分巨大。超构透镜特点为在平面基体上方设计具有不同转向的矩形方块,可形成偏振敏感形超构透镜,或者在基片表面排布具有不同半径的圆柱体,在基体表面构成偏振不敏感超构透镜。这两种主要的介质型超构透镜均采用的是在基体表面加工柱状结构的方式实现超构透镜成像,而对于现有的加工方式而言,柱状结构的加工方式十分困难,微纳柱状结果极容易断裂,造成成像质量下降,整体的加工效率低,周期长,费用高,且对于激光加工方式来讲,现有的激光加工精度难以在基体表面雕刻微纳柱状阵列。


技术实现思路

1、本说明书的目的在于提供一种偏振不敏感红外超构透镜,其能本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,包括红外超构透镜本体;

2.根据权利要求1所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,多个所述盲孔的尺寸根据其在所述红外超构透镜本体上的位置分别确定。

3.根据权利要求2所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,位于所述红外超构透镜本体中心区域的盲孔尺寸小于位于所述红外超构透镜本体边区域的盲孔尺寸。

4.根据权利要求1所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,所述红外超构透镜本体的高度根据其自身透过率和相位确定。

5.根据权利要求1所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,多个所述盲孔以电子束刻蚀、...

【技术特征摘要】

1.一种偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,包括红外超构透镜本体;

2.根据权利要求1所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,多个所述盲孔的尺寸根据其在所述红外超构透镜本体上的位置分别确定。

3.根据权利要求2所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,位于所述红外超构透镜本体中心区域的盲孔尺寸小于位于所述红外超构透镜本体边区域的盲孔尺寸。

4.根据权利要求1所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,所述红外超构透镜本体的高度根据其自身透过率和相位确定。

5.根据权利要求1所述的偏振不敏感红外超构透镜,其特征在于,多个所述盲孔以电子束刻蚀、离子束刻...

【专利技术属性】
技术研发人员:伏开虎田雪
申请(专利权)人:北京遥感设备研究所
类型:发明
国别省市:

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