基板处理装置和基板载置方法制造方法及图纸

本公开提供一种基板处理装置和基板载置方法，能够改善基板的残余应力的分布来适当地保持基板。基板处理装置具备保持部，该保持部的用于吸附基板的吸附面具有圆状的中央区域、以及配置在比中央区域靠外侧的位置的圆环状的外侧区域。保持部具有：第一吸附压力产生部，其用于在中央区域产生使基板吸附于保持部的吸附压力；以及第二吸附压力产生部，其用于在外侧区域产生使基板吸附于保持部的吸附压力。另外，保持部具有外力施加部，该外力施加部用于在外侧区域对基板施加使该基板远离保持部的方向的外力。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种基板处理装置和基板载置方法。

技术介绍

1、在专利文献1中公开了一种接合装置，该接合装置具备用于从上侧的基板的上方吸附上侧的基板的上保持盘(chuck)、以及用于从下侧的基板的下方吸附下侧的基板的下保持盘，该接合装置使两张基板面对面地进行接合。在基板的接合中，接合装置将上保持盘的基板的中央部下推来使该中央部与下保持盘的基板的中央部接触，通过分子间力使两张基板的中央部彼此接合，并使该接合区域从中央部扩展到外周部。

2、具备如上述那样吸附并保持基板的保持盘的基板处理装置在单纯地吸附基板的情况下，有可能在由于基板产生翘曲等原因而基板的残余应力大的状态下进行基板处理。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2015-095579号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本公开提供一种能够改善基板的残余应力的分布来适当地保持基板的技术。

3、用于解决问题的方案

4、根据本公开的一个方式，提供一种本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，具备保持部，所述保持部的用于吸附基板的吸附面具有圆状的中央区域、以及配置在比所述中央区域靠外侧的位置的圆环状的外侧区域，所述基板处理装置具备：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的基板处理装置，其中，

7.根据权利要求1至5中的任一项所述的基板处理装置，其中，

8.根据权利要求1至5中的任一项所述的基...

【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，具备保持部，所述保持部的用于吸附基板的吸附面具有圆状的中央区域、以及配置在比所述中央区域靠外侧的位置的圆环状的外侧区域，所述基板处理装置具备：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的基板处理装置，其中，

7.根据权利要求1至5中的任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：元田公男，菅川贤治，小滨范史，福岛秀行，杉原绅太郎，和田宪雄，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：