检查版图设计的方法、装置、设备、介质以及程序产品制造方法及图纸

技术编号:42456234 阅读:12 留言:0更新日期:2024-08-21 12:46
本公开的各实施例涉及检查版图设计的方法、装置、设备、介质以及程序产品。方法包括:首先将电路版图中的多个图案插入到网格中,从而确定所述图案在网格阵列中的图案分布。然后根据图案分布,将处于同一网格中的图案确定为目标图案组。根据本公开的方案,利用网格筛选图案,能够快速地确定在距离上接近的图案,减少了算法步骤和性能开销,加快了图案提取速度。

【技术实现步骤摘要】

本公开总体上涉及芯片设计工具领域,并且更具体地涉及检查版图设计的方法、装置、设备、介质以及程序产品


技术介绍

1、电子设计自动化(electronic design automation,eda)软件被广泛应用于芯片的设计。借助于各种eda软件,工程师可以方便地进行芯片的设计,例如架构设计和寄存器传输级(register-transfer level,rtl)代码设计、综合(synthesis)、可测性设计(designfor test,dft)、物理实现(physical development)以及签核(signoff)等。

2、在eda软件中,设计规则检查(design rule check,drc)和掩模规则检查(maskrule check,mrc)是版图图形处理中的重要环节。在上述检查中常常需要提取出电路版图中距离小于特定值的图案,然而版图中图案的数量非常多,其规模甚至能达到上亿,因此如何快速提取出距离小于特定值的图案是业界亟待解决的技术问题。


技术实现思路

1、鉴于上述问题,本公开本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于检查版图设计的方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于电路版图中的多个图案,确定所述多个图案在网格阵列中的图案分布包括:

3.根据权利要求要求1或2所述的方法,其特征在于,基于电路版图中的多个图案,确定所述多个图案在网格阵列中的图案分布包括:

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,还包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,还包括:

6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,基于所述网格阵列中的图案分布,确定所述多个图案中的至少一个目标图案组包括

7....

【技术特征摘要】

1.一种用于检查版图设计的方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于电路版图中的多个图案,确定所述多个图案在网格阵列中的图案分布包括:

3.根据权利要求要求1或2所述的方法,其特征在于,基于电路版图中的多个图案,确定所述多个图案在网格阵列中的图案分布包括:

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,还包括:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,还包括:

6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,基于所述网格阵列中的图案分布,确定所述多个图案中的至少一个目标图案组包括:

7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其特征在于,还包括:

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

9.一种用于检查版图设计的装置,其特征在于,所述装置包括:

10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述图案分布确定模块包括:

11.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:程中明
申请(专利权)人:华为技术有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1