【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及荧光光谱,具体来说,涉及一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统及方法。
技术介绍
1、光源的单色性通常通过半峰宽来衡量,这是指光谱线在其最大强度一半处的宽度。此处,将单色光源半峰宽小于等于5nm的定义为所谓窄分布光源,而半峰宽超过5nm的定义为宽分布光源。光谱仪对光源的单色性要求通常很高,因为高单色性可以帮助更精确地测量和分析样品的光谱特征。通常来说,作为荧光光谱仪的光源,半峰宽超过5nm是不利于测试和数据分析的,其中一个重要问题就是光源宽分布辐射带来的散射和荧光信号的重叠。
2、现有方案中通常直接将空白样品(如纯水)的散射信号或者是参数可变的高斯峰作为基对荧光光谱的散射部分进行拟合,这种操作办法对于窄分布的单色光源是有效的,但是对于宽分布的单色性差的光源会导致荧光光谱在激发光波长范围内出现形如附图3所示的异常信号,影响到荧光光谱的后续分析。
3、针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
1、(一)解决的技术问题
【技术保护点】
1.一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,该宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统包括:荧光数据获取单元、拟合范围确定单元、去散射处理单元及插值补充单元;
2.根据权利要求1所述的一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,所述拟合范围确定单元包括:数据点判断模块、过曝光处理模块、寻找拐点模块及拟合范围设置模块;
3.根据权利要求2所述的一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,所述根据原始荧光数据的过曝光处理结果,通过拐点找寻法找寻拐点包括:
4.根据权利要求1所述的一种宽分布光源荧光光
...【技术特征摘要】
1.一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,该宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统包括:荧光数据获取单元、拟合范围确定单元、去散射处理单元及插值补充单元;
2.根据权利要求1所述的一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,所述拟合范围确定单元包括:数据点判断模块、过曝光处理模块、寻找拐点模块及拟合范围设置模块;
3.根据权利要求2所述的一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,所述根据原始荧光数据的过曝光处理结果,通过拐点找寻法找寻拐点包括:
4.根据权利要求1所述的一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,所述去散射处理单元包括:拟合系数计算模块及荧光光谱计算模块;
5.根据权利要求4所述的一种宽分布光源荧光光谱散射信号定向筛选系统,其特征在于,所述根据确定的拟合范围,确定空白光谱和原始荧光数...
【专利技术属性】
技术研发人员:李宇昇,音海稳,张治凡,夏雪竹,朱泉淦,
申请(专利权)人:安徽中科天立泰技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。