【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电子元器件封装的,具体涉及了一种可实现双面垂直冷却的mos管封装结构。
技术介绍
1、mos管作为一种基础且重要的开关及信号保护器件,具有开关速度快、低功耗、热稳定性好等优点,在各类宇航及军用型号的高性能电源系统中应用广泛。然而,随着新一代mos管功率的不断提高,其单位面积电压电流负载能力明显增强,工作时产生的热量也显著提升,因此需要更大幅度的散热需求;
2、然而传统的引线键合封装结构为单面散热模式,在长期高压大电流服役条件下难以实现mos管大量产热的有效导出,从而使芯片产生热损伤,导致器件性能漂移失效。
技术实现思路
1、为了解决现有技术中的上述问题,即传统的引线键合封装结构为单面散热模式,在长期高压大电流服役条件下难以实现mos管大量产热的有效导出,从而使芯片产生热损伤,导致器件性能漂移失效的问题,本专利技术提供了一种可实现双面垂直冷却的mos管封装结构,所述双面垂直冷却mos管封装结构包括:陶瓷外壳、盖板、源极引出端、栅极引出端、漏极引出端和mos芯片;
...【技术保护点】
1.一种可实现双面垂直冷却的MOS管封装结构,其特征在于,所述MOS管封装结构包括:陶瓷外壳(1)、盖板(2)、源极引出端(3)、栅极引出端(4)、漏极引出端(5)和MOS芯片(6);
2.根据权利要求1所述的一种可实现双面垂直冷却的MOS管封装结构,其特征在于,所述MOS芯片(6)包括芯片基体(6-1)、源极pad区(6-2)、栅极pad区(6-3)和漏极pad区(6-4);
3.根据权利要求2所述的一种可实现双面垂直冷却的MOS管封装结构,其特征在于,所述陶瓷外壳(1)包括陶瓷基体(1-1)、源极键合指(1-2)和栅极键合指(1-3);
...【技术特征摘要】
1.一种可实现双面垂直冷却的mos管封装结构,其特征在于,所述mos管封装结构包括:陶瓷外壳(1)、盖板(2)、源极引出端(3)、栅极引出端(4)、漏极引出端(5)和mos芯片(6);
2.根据权利要求1所述的一种可实现双面垂直冷却的mos管封装结构,其特征在于,所述mos芯片(6)包括芯片基体(6-1)、源极pad区(6-2)、栅极pad区(6-3)和漏极pad区(6-4);
3.根据权利要求2所述的一种可实现双面垂直冷却的mos管封装结构,其特征在于,所述陶瓷外壳(1)包括陶瓷基体(1-1)、源极键合指(1-2)和栅极键合指(1-3);
4.根据权利要求3所述的一种可实现双面垂直冷却的mos管封装结构,其特征在于,所述盖板(2)包括金属化粘片区(2-1)、密封焊料环(2-2)、阻焊环(2-3)和盖板基体(2-4);
5.根据权利要求4所述的一种可实现双面垂直冷却的mos管封装结构,其特征在于,所述陶瓷外壳(1)与所述盖板(2)以密封方式连接;所述mos芯片(6)的正面与所述陶瓷外壳(1)连接;所述mos芯片(...
【专利技术属性】
技术研发人员:郝梓淋,戴晨毅,林鹏荣,王勇,刘建松,贾元希,
申请(专利权)人:北京时代民芯科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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