真空测量方法、系统、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空测量方法、系统、装置、电子设备及存储介质，本发明专利技术涉及真空测试技术领域。本发明专利技术实施例的真空测量方法，分多次以不同的气体通入量的测试气体通入目标真空容器中，获取每次通入测试气体的测试气体信号强度和目标真空容器的测试电离规示数。以上述获得的测试气体信号强度和测试电离规示数构建测试真空数据，并对测试真空数据进行线性拟合，以计算出拟合参数。其后，将目标气体通入目标真空容器中，以获取目标气体信号强度和第一电离规示数。若第一电离规示数小于预定示数阈值，则根据目标气体信号强度与拟合参数反推出第二电离规示数。本发明专利技术实施例的真空测量方法能够扩大真空容器真空度的精确测量下限，提高测量精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空测试，尤其是涉及一种真空测量方法、系统、装置、电子设备及存储介质。

技术介绍

1、目前，真空容器内部的真空度通过电离型真空规(简称电离规)进行测量。

2、相关技术中，在采用电离规进行超高真空测量过程中，电离规中阴极发射的电子打到栅极后使得栅极发出x射线，x射线照射到离子收集极时将发射光电子流，上述现象称为电离规的x射线效应。由于上述电离规的x射线效应，光电子流与离子流方向相同，从而在离子收集极上产生一个与压力无关的本底电流，当真空容器内部压强很低时，本底电流占比较大。此时，电离规的示数无法准确地反应出一定数值以下的真空度(例如1×10-11torr以下)，从而限制了真空容器真空度的精确测量下限。因此，如何提供一种真空测量方法，以扩大真空容器真空度的精确测量下限，成了亟待解决的技术问题。

技术实现思路

1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种真空测量方法，能够扩大真空容器真空度的测量下限，提高测量精度。

2、本专利技术还提出一种应本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.真空测量方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的真空测量方法，其特征在于，所述根据所述测试气体信号强度和所述测试电离规示数进行线性拟合，得到拟合参数，包括：

3.根据权利要求2所述的真空测量方法，其特征在于，所述拟合参数包括权重子参数和偏移量子参数；

4.根据权利要求1至3任一项所述的真空测量方法，其特征在于，在所述将测试气体以多个气体通入量通入预设的目标真空容器中之前，所述方法还包括：获取所述目标真空容器，具体包括：

5.真空测量系统，其特征在于，包括：

6.根据权利要求5所述的真空测量系统，其特征在于，所述真空...

【技术特征摘要】

1.真空测量方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的真空测量方法，其特征在于，所述根据所述测试气体信号强度和所述测试电离规示数进行线性拟合，得到拟合参数，包括：

3.根据权利要求2所述的真空测量方法，其特征在于，所述拟合参数包括权重子参数和偏移量子参数；

4.根据权利要求1至3任一项所述的真空测量方法，其特征在于，在所述将测试气体以多个气体通入量通入预设的目标真空容器中之前，所述方法还包括：获取所述目标真空容器，具体包括：

5.真空测量系统，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓，王天悦，郭庆，
申请(专利权)人：南方科技大学，
类型：发明
国别省市：