一种位置调节装置制造方法及图纸

本申请涉及精密加工技术领域，具体涉及一种位置调节装置，包括内部运动框架、驱动器组和正交柔性铰链，内部运动框架与驱动器组转子连接，驱动器组转子一端可沿轴向移动，驱动器组连接在内部运动框架下方，用于带动内部运动框架平移和倾斜运动，正交柔性铰链与内部运动框架连接，内部运动框架可带动正交柔性铰链平移和倾斜运动，正交柔性铰链用于承接晶圆以带动晶圆调整位置。本申请实施例通过将晶圆和掩膜安装在正交柔性铰链上，以驱动器组带动内部运动框架沿着Z轴轴向运动，带动与内部运动框架连接的正交柔性铰链在Z轴上进行倾斜或直线运动，从而在全工作行程中对晶圆与掩膜的间隙进行自适应调平。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及精密加工，具体涉及一种位置调节装置。

技术介绍

1、光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。在接近、接触式及表面等离子体（sp）光刻中由于对焦深的要求非常高，所以曝光的线宽精度与套刻精度受掩膜与基片之间的间隙影响巨大，通常最对只有几十纳米，受限于传统光刻工艺光掩模加工工艺以及采用的光学间隙测量方式，很难在如此小的间隙要求下检测与控制晶圆与掩膜的平行，就更不能调整晶圆与掩膜的间隙了。

2、因此，急需一种能够在全工作行程中实现晶圆与掩膜间隙自适应调平的装置。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种位置调节装置，可以实现能够在全工作行程中实现晶圆与掩膜间隙自适应调平的装置。

2、本申请实施例提一种位置调节装置，包括内部运动框架、驱动器组和正交柔性铰链，

3、内部运动框架与驱动器组转子连接，

4、驱动器组转子一端可沿轴向移动，驱动器组连接在内部运动本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种位置调节装置，其特征在于：包括内部运动框架、驱动器组和正交柔性铰链，

2.根据权利要求1所述的一种位置调节装置，其特征在于：所述正交柔性铰链包括固定端、柔性铰链和运动端，

3.根据权利要求1所述的一种位置调节装置，其特征在于：每组所述柔性铰链包括第一活动连杆和第二活动连杆，

4.根据权利要求1所述的一种位置调节装置，其特征在于：所述内部运动框架开设有中心通孔，所述中心通孔为环形。

5.根据权利要求1所述的一种位置调节装置，其特征在于：所述驱动器组包括第一驱动器、第二驱动器和第三驱动器，

6.根据权利要求5所述的一种位置调...

【技术特征摘要】

1.一种位置调节装置，其特征在于：包括内部运动框架、驱动器组和正交柔性铰链，

2.根据权利要求1所述的一种位置调节装置，其特征在于：所述正交柔性铰链包括固定端、柔性铰链和运动端，

3.根据权利要求1所述的一种位置调节装置，其特征在于：每组所述柔性铰链包括第一活动连杆和第二活动连杆，

4.根据权利要求1所述的一种位置调节装置，其特征在于：所述内部运动框架开设有中心通...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，魏炫宇，刘明刚，
申请(专利权)人：天府兴隆湖实验室，
类型：新型
国别省市：