【技术实现步骤摘要】
本公开涉及半导体,具体涉及一种生成截面轮廓图的方法、装置、计算机设备及存储介质。
技术介绍
1、在集成电路设计领域和平板显示领域进行版图设计时,需要根据各工艺层之间的连接关系和各工艺层的实际堆叠效果,进行版图设计。现有方案是根据对实际版图的理解和各工艺层的基本信息,一层一层直接生成各工艺层堆叠的截面轮廓图,用于在设计真实版图前进行设计构想。但是,该方案缺乏真实版图的联系,并且仅凭想象力想象几十上百层的工艺层的堆叠效果是非常困难的,因此,截面轮廓图的实际显示效果不佳,且对于不同工艺文件的适配性较差。
技术实现思路
1、为克服相关技术中存在的问题,本公开提供了一种生成截面轮廓图的方法、装置、计算机设备及存储介质。
2、根据本公开实施例的第一方面,提供了一种生成截面轮廓图的方法,所述方法包括:
3、获取各工艺层的工艺信息;
4、根据所述工艺信息,构建由所述各工艺层组成的三维结构图;
5、根据所述三维结构图,生成所述各工艺层的截面轮廓图;
【技术保护点】
1.一种生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述工艺信息,构建由所述各工艺层组成的三维结构图,包括:
3.根据权利要求2所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述工艺信息和所述各工艺层之间的相对位置关系,确定所述各工艺层的二维平面图,包括:
4.根据权利要求3所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述二维平面图,构建所述三维结构图,包括:
5.根据权利要求4所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述各工艺层的高度
...【技术特征摘要】
1.一种生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述工艺信息,构建由所述各工艺层组成的三维结构图,包括:
3.根据权利要求2所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述工艺信息和所述各工艺层之间的相对位置关系,确定所述各工艺层的二维平面图,包括:
4.根据权利要求3所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述二维平面图,构建所述三维结构图,包括:
5.根据权利要求4所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述各工艺层的高度值,将所述二维平面图转换为所述三维结构图,包括:
6.根据权利要求5所述的生成截面轮廓图的方法,其特征在于,所述根据所述三维结构图,生成所述各工...
【专利技术属性】
技术研发人员:姜付本,魏洪川,李相启,陆涛涛,
申请(专利权)人:深圳华大九天科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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