粉体成分、涂布用树脂组合物、涂膜制造技术

本发明专利技术的课题在于提供一种可形成透明性优异的涂膜的粉体成分、涂布用树脂组合物及涂膜。本发明专利技术的粉体成分含有：包含由式(A‑I)表示的重复单元及由式(A‑II)表示的重复单元的聚芳酯；及不同于聚芳酯的、具有由式(B)表示的重复单元的化合物，从测定值2减去测定值1而得的值为2000质量ppm以下。测定值1：粉体成分中由式(C)表示的化合物的质量相对于粉体成分的总质量的比例。测定值2：混合粉体成分和二乙胺来获得的混合物中由式(C)表示的化合物的质量相对于粉体成分的总质量的比例。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种粉体成分、涂布用树脂组合物及涂膜。

技术介绍

1、包含源自芳香族二醇化合物的重复单元和源自芳香族二羧酸化合物的重复单元的聚芳酯及包含源自芳香族二醇化合物的重复单元和源自光气的重复单元的聚碳酸酯的耐热性及机械强度等优异，广泛用于工业中。

2、例如，专利文献1中记载有一种以聚酯为主成分的覆膜形成用树脂，所述聚酯由具有联苯结构、二苯基醚结构及环己烷结构的二元羧酸的残基及二元酚的残基构成，并记载有如下内容：通过将游离的二元羧酸控制为0.01～300ppm，在适用于电容器、电子照相感光体等时可稳定化电特性。

3、以往技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2008-031347号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的技术课题

2、本专利技术人等使用包含现有聚芳酯的粉体成分形成涂膜时，发现涂膜的透明性差。

3、因此，本专利技术的课题在于提供一种可形成透明性优异的涂膜的粉体成分、涂布用树脂组合物及涂膜。</p>

4、用于本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种粉体成分，其含有：

2.根据权利要求1所述的粉体成分，其中，

3.根据权利要求2所述的粉体成分，其中，

4.一种涂布用树脂组合物，其包含溶剂和权利要求1至3中任一项所述的粉体成分。

5.一种涂膜，其使用权利要求4所述的涂布用树脂组合物形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种粉体成分，其含有：

2.根据权利要求1所述的粉体成分，其中，

3.根据权利要求2所述的粉体成分，其中，

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【专利技术属性】
技术研发人员：小川泰辉，弘中幸治，野副宽，山下顺子，新井道郎，后泻敬介，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：