氧化锆烧结体及其制造方法技术

本发明专利技术提供兼具在门牙和犬牙(尤其是中切齿、侧中切齿)中也能够适宜使用的高透光性和高强度的氧化锆烧结体及其制造方法。本发明专利技术涉及氧化锆烧结体，其为包含氧化锆和能够抑制氧化锆相变的稳定剂的氧化锆烧结体，前述氧化锆烧结体的结晶颗粒中，在个数基准的粒径分布中，以20～50％的比例包含粒径为0.45μm以上且小于1μm的颗粒，前述粒径为穿过颗粒重心的直径。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及氧化锆烧结体及其制造方法。详细而言，本专利技术涉及兼具在门牙和犬牙(尤其是中切齿、侧中切齿)中也能够适宜使用的高透光性和高强度的氧化锆烧结体及其制造方法。

技术介绍

1、陶瓷的烧结通常是指体系的自由能趋向于减少的物质移动现象。在对陶瓷粉末进行固相烧结的情况下，粉末中包含的一次颗粒取决于其粒径和烧成温度，随着烧成时间的流逝，表面积和界面边减少边进行颗粒生长。已知的是：粉末中包含的粒径越小且与物质移动目标的粒径之差越大，则越容易发生颗粒生长。

2、另外已知的是：陶瓷烧结体通常存在烧结体中包含的粒径越小则晶界面积越会增加、越变为高强度和高韧性的倾向。进而，也已知的是：陶瓷烧结体中包含的以烧结体中包含的粒径计比可见光线的波长充分大的颗粒越多，则越会抑制由颗粒导致的光散射，存在烧结体的透光性变高的倾向。因此，为了兼顾陶瓷的强度和透光性，寻求存在烧结体中包含的粒径小的颗粒和充分大的颗粒。

3、作为陶瓷，例如氧化锆具有高强度和高韧性，因此，使用固溶有少量氧化钇(氧化钇；y2o3)作为稳定剂的氧化锆烧结体(以下有时也称为“部分稳定氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.氧化锆烧结体，其为包含氧化锆和能够抑制氧化锆相变的稳定剂的氧化锆烧结体，

2.根据权利要求1所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆烧结体的结晶颗粒中，在个数基准的粒径分布中，以20～70％的比例包含粒径小于0.45μm的颗粒。

3.根据权利要求1或2所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆烧结体的结晶颗粒中，在个数基准的粒径分布中，以6～35％的比例包含粒径为1μm以上的颗粒。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆的晶系中，利用下式(1)而算出的正方晶系相对于正方晶系与立方晶系的合计的比例为0～70％，</p>

5.根据...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.氧化锆烧结体，其为包含氧化锆和能够抑制氧化锆相变的稳定剂的氧化锆烧结体，

2.根据权利要求1所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆烧结体的结晶颗粒中，在个数基准的粒径分布中，以20～70％的比例包含粒径小于0.45μm的颗粒。

3.根据权利要求1或2所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆烧结体的结晶颗粒中，在个数基准的粒径分布中，以6～35％的比例包含粒径为1μm以上的颗粒。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的氧化锆烧结体，其中，所述氧化锆的晶系中，利用下式(1)而算出的正方晶系相对于正方晶系与立方晶系的合计的比例为0～70％，

5.根据权利要求4所述的氧化锆烧结体，其中，正方晶系相对于所述正方晶系与立方晶系的合计的比例为40～65％。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的氧化锆烧结体，其按照jis t6526:2012而测得的双轴弯曲强度为550mpa以上。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的氧化锆烧结体，其中，所述稳定剂为氧化钇。

8.根据权利要求7所述的氧化锆烧结体，其中，氧化钇的含有率相对于氧化锆与氧化钇的总摩尔为3.0～7.5mol％。

9.权利要求1～8中任一项所述的氧化锆烧结体的制造方法，其为制造包含氧化锆和能够抑制氧化锆相变的稳定剂的氧化锆烧结体的方法，其中，

10.根据权利要求9所述的氧化锆烧结体的制造方法，其中，在所述稳定剂粉末的体积基准的粒径分布中，粒径为0.05～0.40μm的范围内的峰顶的频率(a)与粒径为0.5μm以上的范围内的峰顶的频率(b)的比率(a):(...

【专利技术属性】
技术研发人员：丹羽贵广，樫木信介，中野贵理博，伊藤承央，
申请(专利权)人：可乐丽则武齿科株式会社，
类型：发明
国别省市：