【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及大棚清洁，特别涉及一种温室大棚自清洁系统。
技术介绍
1、温室大棚是应用广泛的果蔬种植建筑，可进行温度调节，种植培育不同的果蔬产品；大棚外部结构较为简单，一般由框架和薄膜组成，薄膜透光效果好，有利于果蔬吸收阳光；也可遮风挡雨，提供庇护；因此，温室大棚是果蔬培育领域至关重要的设施；对于大棚的清洁问题，现有技术提出的一些技术方案已能完成大棚的自清洁作业，但也存在一些问题，例如大棚是薄膜铺设而成，在清洁时，单纯用水冲洗，不能彻底清除附着在薄膜上的杂物；但通过接触式洗刷，难免会给薄膜造成损坏；基于此，本专利技术提出一种大棚清洁系统，能对大棚薄膜完成清洁作业，并能在清理时，对薄膜内侧进行支撑，防止清理过程中对薄膜造成损坏。
技术实现思路
1、针对上述技术问题，本专利技术能对大棚薄膜完成清洁作业，并能在清理时，对薄膜内侧进行支撑，防止清理过程中对薄膜造成损坏。
2、本专利技术所使用技术方案为：一种温室大棚自清洁系统，包括位于大棚两端的支架，支架上设置有清理部件和支撑部件，清理...
【技术保护点】
1.一种温室大棚自清洁系统，其特征在于：包括位于大棚两端的支架（1），支架（1）上设置有清理部件和支撑部件，清理部件位于大棚外侧，支撑部件位于大棚内侧；清理部件和支撑部件均包括固定设置在支架（1）上的导柱一（2）和导轨齿条一（3），导柱一（2）和导轨齿条一（3）上滑动安装有移动座一（4），移动座一（4）上旋转安装有调转台（9），调转台（9）上设置有两个移动件，移动件包括固定连接在调转台（9）上的导轨齿条二（10）和导柱二（11），导轨齿条二（10）和导柱二（11）上滑动安装有移动座二（13）；在支撑部件上，两个移动件分别上设置有支撑辊（15），在清理时用于支撑大棚内侧...
【技术特征摘要】
1.一种温室大棚自清洁系统，其特征在于：包括位于大棚两端的支架（1），支架（1）上设置有清理部件和支撑部件，清理部件位于大棚外侧，支撑部件位于大棚内侧；清理部件和支撑部件均包括固定设置在支架（1）上的导柱一（2）和导轨齿条一（3），导柱一（2）和导轨齿条一（3）上滑动安装有移动座一（4），移动座一（4）上旋转安装有调转台（9），调转台（9）上设置有两个移动件，移动件包括固定连接在调转台（9）上的导轨齿条二（10）和导柱二（11），导轨齿条二（10）和导柱二（11）上滑动安装有移动座二（13）；在支撑部件上，两个移动件分别上设置有支撑辊（15），在清理时用于支撑大棚内侧；在清理部件上，其中一个移动件上设置有冲洗件，另一个移动件上设置有吸附件；冲洗件包括清理刷筒（23），用于清洗大棚外侧，在清洗大棚外侧时，清理刷筒（23）和支撑辊（15）共同与大棚内外侧接触；吸附件包括吸附刷筒（24），用于吸附除去水分。
2.根据权利要求1所述的一种温室大棚自清洁系统，其特征在于：所述移动座一（4）上固定设置有移动电机一（5），移动电机一（5）的输出轴上设置有移动齿轮一（12），移动齿轮一（12）与导轨齿条一（3）构成齿轮副；移动座一（4）上固定设置理由安装板（8），安装板（8）上固定设置有调转电机（6），调转电机（6）用于驱动调转台（9）。
3.根据权利要求2所述的一种温室大棚自清洁系统，其特征在于：所述安装板（8）上设置有固定电磁滑杆（7），在安装板（8）的端面上开设有固定孔，固定电磁滑杆（7）与固定孔配合，以固定调转台（9）。
4.根据权利要求1所述的一种温室大棚自清洁系统，其特征在于：所述移动件包括固定设置在移动座二（13）上的移动电机二（17），移动电机二（17）的输出轴上设置有移动齿轮二（18），移动齿轮二（18）与导轨齿条二（10）构成齿轮副；在支撑部件上，移动座二（13）上固定设置有调节电缸一（14），调节电缸一（14）的伸缩杆上固定设置有支撑电机（16），支撑电机（16）用于驱动支撑辊（15）。
5.根据权利要求1所述的一种温室大棚自清洁系统，其特征在于：所述冲洗件包括调节电缸二（22...
【专利技术属性】
技术研发人员：单华生，
申请(专利权)人：江苏晟辉温室设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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