一种用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法制造方法及图纸

技术编号:42359664 阅读:33 留言:0更新日期:2024-08-16 14:44
一种用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,属于超细硅微粉技术领域,包括以下步骤:包括以下步骤:挑选石英料经过破碎、一次磁选、筛选得到100‑200目纯度为99.9%以上的石英砂;将所述高纯石英砂投入一级球磨机中进行一次球磨,得到预硅微粉;将所述预硅微粉经过二次磁选、运输后投入二级球磨机中进行二次球磨;将二次球磨后的粉料经过筛分、三次磁选后得到粒度范围为8000‑10000目的高纯超细硅微粉;可以达到8000‑10000目且其粒度分配可以满足作为登月装置中摩擦片原材料的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于超细硅微粉,具体为一种用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法


技术介绍

1、在航空航天领域中,我国登月计划正在按照计划展开,在登月装置中的超声电机中的摩擦片中,因为在登月装置升空的过程中,火箭会与大气层摩擦使得登月装置处于高温状态下,因此登月装置的材料需要满足极好的耐高温性能;且在火箭升空或抵达月球降落过程中,会产生较大的冲击能量,因此需要摩擦片的材料具有较高的硬度和抗冲击性能。

2、可以满足摩擦片的性能要求的最佳原材料之一就是超微硅粉,在制备摩擦片的过程中,需要对超微硅粉的细度及粒度分配做出较高的要求,需要采用耐高温的高纯超细硅微粉作为生产密封圈的原材料。

3、现有技术中的硅微粉其细度及粒度分配不能达到制作上述密封圈的需求。


技术实现思路

1、针对上述情况,为了克服现有技术的缺陷,本专利技术实施例提供了一种用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,至少解决了部分现有技术中的问题。

2、本专利技术采用的技术方案如下:一种用于航空登月装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:所述一级球磨机球磨后的出料粒度范围为1000-3000目。

3.根据权利要求2所述的用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:所述一级球磨机球磨后的粒度区间设置为五个,包括粒度由小到大设置的第一粒度区间、第二粒度区间、第三粒度区间、第四粒度区间、第五粒度区间,所述预硅微粉在第一粒度区间、第二粒度区间、第三粒度区间、第四粒度区间、第五粒度区间均有占比。

4.根...

【技术特征摘要】

1.一种用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:所述一级球磨机球磨后的出料粒度范围为1000-3000目。

3.根据权利要求2所述的用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:所述一级球磨机球磨后的粒度区间设置为五个,包括粒度由小到大设置的第一粒度区间、第二粒度区间、第三粒度区间、第四粒度区间、第五粒度区间,所述预硅微粉在第一粒度区间、第二粒度区间、第三粒度区间、第四粒度区间、第五粒度区间均有占比。

4.根据权利要求3所述的用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:所述第一粒度区间的粒度设置为1000-1200目,所述第二粒度区间的粒度设置为1400-1600目,所述第三粒度区间的粒度设置为1800-2000目,所述第四粒度区间的粒度设置为2400-2600目,所述第五粒度区间的粒度设置为2800-3000目。

5.根据权利要求1所述的用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:所述二级球磨机球磨后的出料粒度范围为8000-10000目。

6.根据权利要求5所述的用于航空登月装置中耐高温的高纯超细硅微粉的制备方法,其特征在于:所述二级球磨机内...

【专利技术属性】
技术研发人员:张雷徐建光黄静
申请(专利权)人:江苏苏德瑞石英材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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