【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于稀疏阵列设计和波束形成领域，具体为一种用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法。
技术介绍
1、在工程应用中，受到设备本身载体、内部布局、使用场景等诸多因素的限制，对应阵列的几何结构不可能是完全理想的。此外，给定的标称参考位置与实际阵元位置之间存在误差、各阵元之间可能存在增益和相位失配误差，这些都会产生阵列流形偏差，从而急剧降低波束形成性能。例如，在机载阵列天线的使用场景下，飞机本身并不是一个绝对刚体，在飞行过程中一定伴随着机身的震荡形变，那么机载天线也会产生位移，对应的阵列导向矢量也会形成位移偏差。只有基于正确的阵列流型矩阵才能获得精确的doa估计和良好的波束形成性能。因此对阵列流形的偏差进行校准是十分重要且极具现实意义的。
2、目前关于部分校准阵列的研究主要集中在doa估计和自适应波束形成两个方面。通过在不同的性能度量下，尽可能地提高子阵列的校准精度，获得更稳健的性能。但是针对部分校准阵列进行稀疏子阵选择的研究还处在初始阶段。
技术实现思路
1、本专利...
【技术保护点】
1.一种用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，基于部分校准阵列，以最大化输出信干噪比为设计准则，将稀疏子阵选择和接收波束形成设计描述为具有l0范数正则化的非凸约束优化问题，具体表示为：
3.根据权利要求2所述的用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，阵列导向矢量具体为：
4.根据权利要求1所述的用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，通过利用半正定松弛和重加权l1范数逼近技...
【技术特征摘要】
1.一种用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，基于部分校准阵列，以最大化输出信干噪比为设计准则，将稀疏子阵选择和接收波束形成设计描述为具有l0范数正则化的非凸约束优化问题，具体表示为：
3.根据权利要求2所述的用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，阵列导向矢量具体为：
4.根据权利要求1所述的用于部分校准阵列的稀疏子阵选择与波束形成设计方法，其特征在于，通过利用半正定松弛和重加权l1范数逼近技术，将非凸约束优化问题转换为凸优化问题的具体方法为：
5.根据权利要求1所述的用于部...
【专利技术属性】
技术研发人员：冉龙瑶，邹智薪，陈丰元，花居驹，乔羽，邹家华，杨卓，邢灵儿，陈胜垚，孙之桢，李洪涛，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：发明
国别省市：
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