一种银合金靶材及其制备方法和应用技术

技术编号:42314891 阅读:33 留言:0更新日期:2024-08-14 15:58
本发明专利技术提供了一种银合金靶材及其制备方法和应用,属于有机发光二极管(OLED)器件的阳极材料技术领域。本发明专利技术在纯银中添加锌和钕,锌在银中的固溶度较高,添加锌可以形成固溶强化,增加银的强度,稀土钕元素在银合金中除了典型的固溶强化作用外,还能够改善银合金的凝固,从而产生细化晶粒的效果,并且在热处理过程中,钕元素也能起到细化晶粒的效果,同时在溅射成膜时,钕原子有钉扎作用,从而提高薄膜的粘附性能,控制锌和钕的含量,使得银合金靶材适合于溅射镀膜工艺,制备得到同时具有良好导电率、反射率、粘附性、表面粗糙度和可靠性的银合金薄膜和ITO/Ag合金/ITO薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机发光二极管(oled)器件的阳极材料,尤其涉及一种银合金靶材及其制备方法和应用


技术介绍

1、随着显示技术的不断进步,市场对有机发光二极管(oled)器件的性能要求越来越高,对于oled器件而言,提高其性能的关键因素之一是获得性能优异的发射阳极层,这其中获得性能优异的发射阳极层的关键因素是获得性能优异的银合金薄膜。为了获得性能优异的发射阳极层,不仅要求银合金薄膜具有良好的导电率、反射率、与ito材料的粘附性以及薄膜的表面粗糙度,而且要求ito薄膜层/银合金薄膜/ito薄膜层构成的三层结构阳极(简称ito/ag合金/ito)也必须要有良好的导电率、反射率、各层间以及与基体材料的粘附性以及表面粗糙度,尤其是后三项指标更加关键。

2、对于银合金薄膜或ito/ag合金/ito薄膜而言,单一的性能指标并不能衡量反射阳极层的优异性,如薄膜具备良好的导电性、反射率和表面粗糙度,但不具备良好的粘附性时,则同样不能广泛地使用,因为银合金靶材必须通过溅射工艺成为薄膜沉积在ito基体上,如果粘附性能不佳,则该薄膜的稳定性不好,从而影响了oled阳本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种银合金靶材,按质量百分含量计,包括Zn 0.2~1%、Nd 0.001~0.1%和余量的Ag。

2.根据权利要求1所述的银合金靶材,其特征在于,按质量百分含量计,包括Zn 0.3~0.6%、Nd 0.001~0.05%和余量的Ag。

3.根据权利要求1或2所述的银合金靶材,其特征在于,所述银合金靶材中的平均晶粒尺寸为20~70μm。

4.权利要求1~3任意一项所述银合金靶材的制备方法,包括以下步骤:

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中熔炼的温度为1150~1250℃,熔炼的时间为30~60min。

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【技术特征摘要】

1.一种银合金靶材,按质量百分含量计,包括zn 0.2~1%、nd 0.001~0.1%和余量的ag。

2.根据权利要求1所述的银合金靶材,其特征在于,按质量百分含量计,包括zn 0.3~0.6%、nd 0.001~0.05%和余量的ag。

3.根据权利要求1或2所述的银合金靶材,其特征在于,所述银合金靶材中的平均晶粒尺寸为20~70μm。

4.权利要求1~3任意一项所述银合金靶材的制备方法,包括以下步骤:

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中熔炼的温度为1150~1250℃,熔炼的时间为30~60min。

6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯庆龙鄢展圣陈霖李强张科陈钦忠
申请(专利权)人:福建阿石创新材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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