抗蚀剂图案的制造方法、层叠体的制造方法及直接成像曝光用感光性转印材料技术

本发明专利技术提供一种缺陷少的抗蚀剂图案的制造方法。本发明专利技术提供一种抗蚀剂图案的制造方法、使用通过上述抗蚀剂图案的制造方法制造的抗蚀剂图案的层叠体的制造方法及具有临时支承体和转印层且上述转印层的氧透过率为25,000cc/(m<supgt;2</supgt;·天·atm)以下的直接成像曝光用感光性转印材料，该抗蚀剂图案的制造方法包括：以具有临时支承体和至少包含感光性树脂层的转印层的感光性转印材料的与上述临时支承体侧相反侧的表面与在表面具有导电层的导电性基材的上述导电层接触的方式，将上述感光性转印材料与上述基材进行贴合的工序；在上述临时支承体与上述转印层之间，剥离上述临时支承体的工序；通过直接成像法对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；及对经曝光的上述感光性树脂层，实施显影处理而形成抗蚀剂图案的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种抗蚀剂图案的制造方法、层叠体的制造方法及直接成像曝光用感光性转印材料。

技术介绍

1、在静电电容型输入装置等具备触摸面板的显示装置(有机电致发光(el)显示装置及液晶显示装置等)中，相当于视觉辨认部的传感器的电极图案、周边布线部分及引出布线部分的布线等导电图案设置于触摸面板内部。

2、通常，在图案化的层的形成中，由于用于得到所需图案形状的工序数量少，因此广泛使用如下方法：对使用感光性转印材料在任意的基板上设置的感光性树脂组合物的层，经由具有所期望的图案的掩模进行曝光之后进行显影。

3、并且，以往，基于印刷的导电图案在各种领域中被广泛用作压力传感器或生物传感器(biosensor)等各种传感器、印刷基板、太阳能电池、电容器、电磁屏蔽件、触摸面板、天线等。

4、并且，作为以往的感光性树脂组合物，已知有专利文献1中所记载的感光性树脂组合物。

5、在专利文献1中，记载有一种感光性树脂组合物，其包含：(a)碱溶性高分子；(b)具有烯属不饱和键的化合物；及(c)光聚合引发剂，并且用于形成曝光后可从支承体本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种抗蚀剂图案的制造方法，其包括：

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

3.根据权利要求2所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

5.根据权利要求4所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

6.根据权利要求5所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

7.根据权利要求6所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

9.根据权利要求1至8中任一项所述的抗蚀剂图案的制造方法...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种抗蚀剂图案的制造方法，其包括：

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

3.根据权利要求2所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

5.根据权利要求4所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

6.根据权利要求5所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

7.根据权利要求6所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

9.根据权利要求1至8中任一项所述的抗蚀剂图案的制造方法，其中，

10.一种具有导体图案的层叠体的制造方法，其包括：

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【专利技术属性】
技术研发人员：藤本进二，石坂壮二，鬼塚悠，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：