【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学分析领域,尤其涉及一种光谱分析系统。
技术介绍
1、光谱分析系统是将多色光分解为光谱的科学仪器,利用光谱分析系统能够获取物体发射光或者反射光的光谱,进而分析出物质的成分、结构等信息,在环境检测、化学分析、良率探测等众多领域中广泛应用。
2、传统的光谱分析系统主要包括如下几种:1)基于光栅分光的光谱分析系统;2)基于透镜分光的共焦光谱分析系统;3)基于滤光元件的光谱分析系统;4)基于显微成像系统的光谱离轴测量装置。但是,第1种光谱分析系统中的光栅探测光谱通常适合探测紫外到近红外波段的光谱,探测带宽较窄。利用旋转光栅模块,虽然能够提升光谱测量系统的带宽,但会显著提升光谱测量系统的成本,并且旋转光栅模块机械固定部分容易磨损影响整个系统稳定性,将导致光谱测量系统使用寿命降低且光谱测量精度和可重复性下降。第2种光谱分析系统中集成在运动平台的光电探测器限制了系统小型化,同时,运动平台和光电探测器集成,运动平台机械运动时的震动将影响光电探测器接收信号,影响光谱测量精度和可靠性。第3种光谱分析系统中,滤光元件的个数限制导致
...【技术保护点】
1.一种光谱分析系统,其特征在于:包括:
2.如权利要求1所述的光谱分析系统,其特征在于:所述超表面准直单元还包括第一衬底,所述第一超表面设于所述第一衬底;所述超表面色散单元还包括第二衬底,所述第二超表面设于所述第二衬底。
3.如权利要求1所述的光谱分析系统,其特征在于:所述色散模块还包括衬底,所述衬底具有朝向所述光源的第一表面、与所述第一表面相对的第二表面,所述第一超表面设于所述第一表面,所述第二超表面设于所述第二表面。
4.如权利要求1所述的光谱分析系统,其特征在于:所述光电探测装置包括:
5.如权利要求4所述的光谱
...【技术特征摘要】
1.一种光谱分析系统,其特征在于:包括:
2.如权利要求1所述的光谱分析系统,其特征在于:所述超表面准直单元还包括第一衬底,所述第一超表面设于所述第一衬底;所述超表面色散单元还包括第二衬底,所述第二超表面设于所述第二衬底。
3.如权利要求1所述的光谱分析系统,其特征在于:所述色散模块还包括衬底,所述衬底具有朝向所述光源的第一表面、与所述第一表面相对的第二表面,所述第一超表面设于所述第一表面,所述第二超表面设于所述第二表面。
4.如权利要求1所述的光谱分析系统,其特征在于:所述光电探测装置包括:
5.如权利要求4所述的光谱分析系统,其特征在于:所述光电探测器包括探测器本体、设于所述探测器本体朝向所述透射反射镜一侧的遮蔽板,所述遮蔽板上具有狭缝,所述狭缝与所述光源相对所述透射反射镜对称设置。
6.如权利要求5所述的光谱分析系统,其特征在于:所述狭缝的宽度为10μm~200μm。
7.如权利要求1所述的光谱分析系统,其特征在于:所述第一超表面与所...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩旭,史坦,戴安丽,范鸿杰,
申请(专利权)人:苏州山河光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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