一种卟啉二维高分子非线性光学材料及其制备和应用制造技术

本发明专利技术涉及一种卟啉二维高分子非线性光学材料及其制备和应用，采用自下而上的生长策略，利用单体自偶联聚合反应，在模板剂的辅助下，反应得到一种卟啉二维高分子的非线性光学材料。与现有的技术相比，本发明专利技术的材料不仅具有拓宽的共轭平面，超薄的纳米片形貌；而且具有优异的分散性，能够进一步制备成薄膜器件，该器件首次在超快脉冲激光下展现出横跨可见光区和近红外光区的宽带光限辐性能。同时，反应单体容易获得，制备过程操作简便，易于控制，适合大量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于二维高分子非线性光学材料，涉及一种卟啉二维高分子非线性光学材料及其制备和应用。

技术介绍

1、超快激光促进了纳米医学、通信、纳米加工等领域的发展。然而超快激光的高能量对光敏感器件甚至人眼带来了潜在的风险。因此，合理高效地利用超快脉冲激光显得尤为重要。光限辐是一类能够控制激光脉冲强度使光学器件和人眼免受不可接受的能量的辐照。光限辐性能依赖于具有反饱和吸收或者多光子吸收的材料来实现。目前已经报道的光限辐材料大多集中在有机小分子、纳米晶、有机无机杂化材料，然而，它们的光限辐性能大多在溶液中或者分散液中观察到，溶液体系不利于实际应用场景。因此，开发一种光限辐器件用于超快激光的防护具有重要的科学意见。

2、二维材料具有光学响应快、激子效应强的优势，有可能在非线性光学领域取得优异的性能。卟啉单体具有丰富的π电子，并且周围的共轭环境能够改变卟啉的电子结构，从而对其光学性质进行调控。将卟啉单体集成在二维空间内得到拓展的共轭结构，不仅具有卟啉单体的性质，而且具有二维材料的性能，有望实现超快脉冲激光下的光限辐性能。

3、如中国专利cn20本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，5,10,15,20-四(4-氨基苯)卟啉和氯化钠的添加质量比为1：(2000～8000)。

3.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述溶剂为二氯甲烷。

4.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，反应温度为200～600℃。

5.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子...

【技术特征摘要】

1.一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，5,10,15,20-四(4-氨基苯)卟啉和氯化钠的添加质量比为1：(2000～8000)。

3.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述溶剂为二氯甲烷。

4.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，反应温度为200～600℃。

5.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，反应时间为1～15h。

6.根据权利要求1所述的一种卟啉二维高分子非线性光学材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)...

【专利技术属性】
技术研发人员：张弛，刘芳，伏露露，关子豪，魏志远，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：