【技术实现步骤摘要】
本技术是关于真空设备领域，特别是关于一种样品底座。
技术介绍
1、为了避免由于样品表面污染而造成结构或化学的改变与损伤，薄膜材料通常需要放置于真空环境中，在超高真空环境中，原子级干净的表面才可能保持较长时间，从而使得原子层生长、表面/界面控制和本征性质原位表征成为可能。通过超高真空管道将薄膜制备设备与各表征仪器设备之间实现了真正意义上超高真空的互联且集材料生长、器件加工和测试分析一体。真空互联扫描电镜结合真空互联装置，可进行材料单层或多层厚度的表征，而且对空气及水更敏感的材料，可以更加准确的观察到材料的表面信息。
2、现有真空互联扫描电镜中样品底座不通用于真空互联扫描电镜设备，即便可以与真空互联设备样品托兼容，安装时的角度与高度误差也会较大，每次传样时在调整装置上会浪费较多时间，同时还增加了样品的掉样风险。因此需要一种新型的样品底座既可以兼容互联样品托，而且可以保证一个稳定的、合适的高度和角度位置。
3、公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已...
【技术保护点】
1.一种样品底座，用于放置样品托并固定于真空互联扫描电镜的位移台上，其特征在于，所述样品底座包括：
2.如权利要求1所述的样品底座，其中样品托具有滑块以及弹簧片，其特征在于，所述环形板的侧壁设置有卡接槽，所述卡接槽用于与样品托的滑块卡接。
3.如权利要求2所述的样品底座，其特征在于，所述支撑板的两侧均具有通槽，所述通槽用于与样品托卡接。
4.如权利要求3所述的样品底座，其特征在于，所述通槽自所述支撑板的外周向内开设。
5.如权利要求1所述的样品底座，其特征在于，所述支撑板的底面设置有配重块。
6.如权利要求1...
【技术特征摘要】
1.一种样品底座，用于放置样品托并固定于真空互联扫描电镜的位移台上，其特征在于，所述样品底座包括：
2.如权利要求1所述的样品底座，其中样品托具有滑块以及弹簧片，其特征在于，所述环形板的侧壁设置有卡接槽，所述卡接槽用于与样品托的滑块卡接。
3.如权利要求2所述的样品底座，其特征在于，所述支撑板的两侧均具有通槽，所述通槽用于与样品托卡接。
4.如权利要求3所述的样品底座，其特征在于，所述通槽自所述支撑板的外周向内开设。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：许蕾蕾，黄增立，刘宏伟，张亚宾，翁雪霏，张珽，
申请(专利权)人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，
类型：新型
国别省市：
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