【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洗装置,尤其涉及一种用于刻蚀清洗含粉尘履带的装置。
技术介绍
1、半导体晶圆生产过程中产生的反应气体会在履带表面起化学反应,生成粉尘,这层粉尘对反应腔内部的环境是有害的,因此要对履带进行刻蚀清洗,清除这些反应副产物。
2、现有的清洗含粉尘履带装置对履带表面粉尘清理的效果较差,导致残留的粉尘容易沾污到后面加工的产品,大大降低了产品的良品率,降低了产品的生产质量,并且在对履带清洗的过程中会产生一定的污染气体,影响了工作人员的工作环境,容易对工作人员的身体造成危害;因此我们提出一种用于刻蚀清洗含粉尘履带的装置来解决这个问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种用于刻蚀清洗含粉尘履带的装置,以解决上述
技术介绍
中所提出的问题。
2、为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
3、一种用于刻蚀清洗含粉尘履带的装置,包括清洗装置本体,所述清洗装置本体内腔前后两侧的左右两侧转动连接有输送带,所述清洗装置本体底部的右侧固定安装有安装座,所述安装座的底
...【技术保护点】
1.一种用于刻蚀清洗含粉尘履带的装置,包括清洗装置本体(1),其特征在于:所述清洗装置本体(1)内腔前后两侧的左右两侧转动连接有输送带,所述清洗装置本体(1)底部的右侧固定安装有安装座(12),所述安装座(12)的底部固定安装有氢氟酸喷气板(2),所述清洗装置的顶部从左至右依次固定安装有第一安全隔离用氮气喷气盒(9)、第一辅助排气盒(6)、第二安全隔离用氮气喷气盒(10)、主排气盒(5)、第三安全隔离用氮气喷气盒(11)和第二辅助排气盒(7),所述清洗装置本体(1)底部的左侧固定安装有第三辅助排气盒(8),所述清洗装置本体(1)的左侧和右侧分别固定开设有履带出口(4)
...【技术特征摘要】
1.一种用于刻蚀清洗含粉尘履带的装置,包括清洗装置本体(1),其特征在于:所述清洗装置本体(1)内腔前后两侧的左右两侧转动连接有输送带,所述清洗装置本体(1)底部的右侧固定安装有安装座(12),所述安装座(12)的底部固定安装有氢氟酸喷气板(2),所述清洗装置的顶部从左至右依次固定安装有第一安全隔离用氮气喷气盒(9)、第一辅助排气盒(6)、第二安全隔离用氮气喷气盒(10)、主排气盒(5)、第三安全隔离用氮气喷气盒(11)和第二辅助排气盒(7),所述清洗装置本体(1)底部的左侧固定安装有第三辅助排气盒(8),所述清洗装置本体(1)的左侧和右侧分别固定开设有履带出口(4)和履带进口(3)。
2.根据权利要求1所述的一种用于刻蚀清洗含粉尘履带的装置,其特征在于:所述清洗装置本体(1)的顶部依次开设有与第一安全隔离用氮气喷气盒(9)、第一辅助排气盒(6)、第二安全隔离用氮气喷气盒(10)、主排气盒(5)、第...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘招林,
申请(专利权)人:无锡柏斯威科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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