目标物校准响应曲线获取方法及目标物含量测量方法技术

本发明专利技术提供一种目标物校准响应曲线获取方法及目标物含量测量方法。本发明专利技术首先对硅纳米线传感器进行表面改性处理，尽可能排除硅纳米线表面附着的干扰物，之后通过测量零目标物溶液的阈值电压以及不同目标物含量的量化溶液的阈值电压，本发明专利技术可以构建目标物含量与阈值电压之间的目标物响应曲线，通过对多个硅纳米线传感器的目标物响应曲线进行均值化处理，本发明专利技术最终可以获得目标物校准响应曲线；进一步地，本发明专利技术提供一种目标物含量测量方法，通过目标物校准响应曲线，本发明专利技术可以通过测量阈值电压直接获取溶液中的目标物含量，本发明专利技术具有检测准确率高、可复用性强的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及生化检测，特别是涉及目标物校准响应曲线获取方法及目标物含量测量方法。

技术介绍

1、硅纳米线场效应管传感器使用硅纳米线作为传感器的敏感元件，硅纳米线设置为源极与漏极之间的沟道，生物分子或化合物分子通过化学键连接在硅纳米线表面，由于生物分子或化合物分子自身的电荷特性会使硅纳米线内部导电通道的宽窄发生改变，传感器的阈值电压也会发生变化。由于硅纳米线具有超高的比表面积，硅纳米线传感器的阈值电压变化十分灵敏，因此在生化检测领域，利用硅纳米线的高灵敏特性，硅纳米线传感器可以对生化领域的目标物进行精确检测。

2、然而由于硅纳米线传感器灵敏性高的特点，干扰物很容易附着在硅纳米线表面，干扰物上携带的电荷也会影响硅纳米线内部导电通道的宽窄，因此会导致硅纳米线传感器在目标物的检测上存在一定误差。为了减小干扰物对于硅纳米线的影响，现有技术一般在进行目标物检测前需要对硅纳米线传感器进行表面修饰，利用表面修饰物与目标物之间特有的生化反应降低干扰物对传感器产生的干扰，但是仅仅通过硅纳米线传感器进行表面修饰的处理方法，目标物检测结果还是存在较大的误差。

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【技术保护点】

1.一种目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于，所述目标物校准响应曲线获取方法的步骤至少包括：

2.根据权利要求1所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于：各量化溶液中目标物含量呈均匀的倍数增长。

3.根据权利要求1所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于：在步骤S4中，所述第一阈值电压差归一化处理后得到的，其中，最大阈值电压差。

4.根据权利要求1所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于：所述目标物校准响应曲线由n个目标物响应曲线进行均值化处理得到。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于，...

【技术特征摘要】

1.一种目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于，所述目标物校准响应曲线获取方法的步骤至少包括：

2.根据权利要求1所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于：各量化溶液中目标物含量呈均匀的倍数增长。

3.根据权利要求1所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于：在步骤s4中，所述第一阈值电压差归一化处理后得到的，其中，最大阈值电压差。

4.根据权利要求1所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于：所述目标物校准响应曲线由n个目标物响应曲线进行均值化处理得到。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的目标物校准响应曲线获取方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李铁，李亚钊，
申请(专利权)人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所，
类型：发明
国别省市：