光谱成像装置制造方法及图纸

技术编号:42209688 阅读:20 留言:0更新日期:2024-07-30 18:52
本发明专利技术提供一种光谱成像装置,包括分光结构和感光单元、分光结构包括至少两个滤波单元,至少两个滤波单元沿第一方向依次叠设,使得光谱成像装置能够捕获并分离出更精细的光谱波段,避免光谱成像的相邻波段之间存在重叠,可以提高光谱成像质量。每个滤波单元都包括液晶部、第一光栅部和第二光栅部,可以精确地调控光线的传播和滤波,从而获取高光谱分辨率的图像。液晶部可以通过施加电压来调控其光学性质,这意味着滤波单元的透射或反射特性可以根据需要进行调整。感光单元被设计用于获取分光结构滤波后的光信号,并将其转换为电信号,确保了光信号的有效利用,并且转换过程高效且准确。这为后续的数据处理和分析提供了高质量的原始数据。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光谱成像,具体涉及光谱成像装置


技术介绍

1、超光谱成像得到的每个像素对应的光谱曲线,将直接反映被观测物体的光谱特征,识别各种伪装目标,比传统相机或成像仪更能详细地探测目标辐射能量。目前,超光谱成像对光谱的细分能力要求极高。

2、相关技术中超光谱成像的分光结构分出的光的波长范围较宽,导致超光谱成像的相邻波段之间存在重叠,成像质量较差。


技术实现思路

1、本专利技术的实施例提供了一种光谱成像装置,可以改善相关技术中超光谱成像的分光结构分出的光的波长范围较宽,导致超光谱成像的相邻波段之间存在重叠,成像质量较差的技术问题。

2、第一方面,本专利技术的实施例提供了一种光谱成像装置。

3、在一实施例中,光谱成像装置包括:

4、分光结构,包括至少两个滤波单元,所述至少两个滤波单元沿第一方向依次叠设,每个所述滤波单元均包括液晶部、第一光栅部及第二光栅部,所述液晶部适于被施加电压,沿所述第一方向,所述第一光栅部和所述第二光栅部分别处于所述液晶部相背离的两侧且均与本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光谱成像装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,在所述至少两个滤波单元的所述液晶部被施加电压的情况下,至少两个所述液晶部的液晶的偏转角度不同,以使被其中一个所述滤波单元滤除后的光信号中的部分光信号适于被另一个所述滤波单元滤除。

3.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,所述液晶部包括超快铁电液晶。

4.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,所述至少两个滤波单元中,每个所述滤波单元适于通过预设范围波长的光信号,其中,所述至少两个滤波单元的预设范围波长具有交集范围,所述交集范围为:a≤λ≤b,其中...

【技术特征摘要】

1.一种光谱成像装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,在所述至少两个滤波单元的所述液晶部被施加电压的情况下,至少两个所述液晶部的液晶的偏转角度不同,以使被其中一个所述滤波单元滤除后的光信号中的部分光信号适于被另一个所述滤波单元滤除。

3.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,所述液晶部包括超快铁电液晶。

4.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,所述至少两个滤波单元中,每个所述滤波单元适于通过预设范围波长的光信号,其中,所述至少两个滤波单元的预设范围波长具有交集范围,所述交集范围为:a≤λ≤b,其中,λ表示波长,a和b为常数,且0nm<b-a≤1nm。

5.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,所述第一光栅部的占空比为b1,其中,0.3≤b1≤0.7;和/或,

6.根据权利要求1所述的光谱成像装置,其特征在于,所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨永霖周莹
申请(专利权)人:深圳光感半导体有限公司
类型:发明
国别省市:

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