一种与柔弹性材料相兼容的高精度无损光刻有机场效应晶体管的功能层的方法技术

本发明专利技术公开了一种与柔弹性材料相兼容的高精度无损光刻有机场效应晶体管的功能层的方法。所述方法包括如下步骤：在衬底表面沉积有机场效应晶体管的功能层，在功能层上制备耐水保护层，或耐水保护层与溶剂保护层的双层保护层；在耐溶剂保护层或双层保护层上旋涂光刻胶进行光刻，形成图案化的光刻胶薄膜；对衬底进行刻蚀；将衬底依次进行后处理，以除去图案化的光刻胶薄膜、耐水保护层和耐溶剂保护层即得。本发明专利技术方法工艺简单，具有普适性，不仅可以光刻有机半导体层，还可以光刻有机绝缘层、聚合物电极层，一种光刻方法就可以实现对有机场效应晶体管的各个功能层的全部光刻图案化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种与柔弹性材料相兼容的高精度无损光刻有机场效应晶体管的功能层的方法，属于有机电子领域。

技术介绍

1、近年来，柔性电子器件引起全世界的广泛关注，并得到了迅速发展，这种器件是指在一定范围的形变(弯曲、折叠、扭转、压缩或拉伸)条件下仍可工作的电子器件。早在2000年，美国《science》杂志就曾将柔性电子技术与人类基因组草图、生物克隆技术等评为世界十大科技成果。由此，可穿戴电子器件、医用可植入器件、电子皮肤以及智能电子织物等概念被不断提出，组成了未来人类生活蓝图的一部分。为了提高柔弹性有机场效应晶体管器件的运算速度，降低器件的功耗，缩小晶体管的尺寸就成了不二法门。

2、为了满足电子芯片密度和集成复杂度的商业应用，需要对有机场效应晶体管器件的所有功能层进行图案化。传统的掩模法、丝网印刷法、喷墨打印法都是只具有百微米空间分辨率的低密度图案化技术，导致低精度、低集成度的问题。光刻，作为现代光电子产业的基础，在大规模、高精度、高集成生产方面已显示出不可替代的优势。与阴影掩模和印刷等其他技术相比，光刻技术可以将设备的特征尺寸缩小到几纳米，具本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种有机场效应晶体管的功能层的图案化方法，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的图案化方法，其特征在于：所述功能层包括有机半导体层、有机绝缘层和聚合物电极层。

3.根据权利要求2所述的图案化方法，其特征在于：所述有机半导体层的材质为聚合物半导体材料或小分子半导体材料；

4.根据权利要求1-3中任一项所述的图案化方法，其特征在于：所述耐溶剂保护层的材质为水基材料，具体为聚乙烯醇或葡聚糖；

5.根据权利要求1-4中任一项所述的图案化方法，其特征在于：步骤S2中，所述耐溶剂保护层的制备方法为：

6.根据权利要求1-5中任一项所述...

【技术特征摘要】

1.一种有机场效应晶体管的功能层的图案化方法，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的图案化方法，其特征在于：所述功能层包括有机半导体层、有机绝缘层和聚合物电极层。

3.根据权利要求2所述的图案化方法，其特征在于：所述有机半导体层的材质为聚合物半导体材料或小分子半导体材料；

4.根据权利要求1-3中任一项所述的图案化方法，其特征在于：所述耐溶剂保护层的材质为水基材料，具体为聚乙烯醇或葡聚糖；

5.根据权利要求1-4中任一项所述的图案化方法，其特征在于：步骤s2中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：汤庆鑫，赵晓丽，童艳红，倪艳萍，
申请(专利权)人：东北师范大学，
类型：发明
国别省市：