新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法及产品技术

本发明专利技术公开了一种新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，所述高熵合金粉末中各元素的摩尔比为：Al:Co:Cr:Fe:Ni:Cu＝1:1:1:1:2:1。本发明专利技术提供的高熵合金粉末成分分布均匀，球形度高。利用本发明专利技术的高熵合金粉末，作为同轴送粉激光沉积的原始粉末制备得到的高熵合金，具有结构致密均匀、孔隙少、未融化颗粒少、与基板结合良好的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高熵合金成分设计及高熵合金成形，具体为一种新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法。

技术介绍

0、技术背景

1、基于一种主要元素设计的传统合金已经使用了数千年，这为现代工业奠定了基础。近年来，yeh et al.[1]提出了一种新的多组分合金，即高熵合金(high entropyalloys,heas)。heas主要被设计成一种由五种或五种以上元素以等摩尔或近等摩尔比例组成的合金。然后，将混合熵大于1.5r(r为气体常数)的合金定义为高熵合金。heas具有独特的设计理念、稳定的结构以及优异的性能等特征。其中，双相(bcc和fcc)高熵合金合金因其良好的相稳定性和优异的力学性能而受到材料学家和工程学家的广泛关注，具有广泛的应用前景。

2、随着科技的发展，与传统工艺相比，增材制造技术自诞生之初就展示除了巨大的应用潜力。随着增材制造技术的不断发展，在激光快速成形和激光熔覆成形技术的基础上发展出了激光沉积制造技术，激光沉积技术具有以下特点[2]：(1)直接制备金属零件；(2)方便、灵活地沉积异质材料零件；(3)可加工的材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：所述制备方法的步骤如下：

2.根据权利要求1所述的新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：同轴送粉激光沉积的工艺参数为：激光功率2200W，扫描速度5mm/s，送粉速度25g/min。

3.根据权利要求1或2所述的新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：S1中按照下述比例称取原料：所述高熵合金粉末中各元素的摩尔比为：Al:Co:Cr:Fe:Ni:Cu＝1:1:1:1:2:1。

4.根据权利要求3所述的新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：S...

【技术特征摘要】

1.一种新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：所述制备方法的步骤如下：

2.根据权利要求1所述的新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：同轴送粉激光沉积的工艺参数为：激光功率2200w，扫描速度5mm/s，送粉速度25g/min。

3.根据权利要求1或2所述的新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：s1中按照下述比例称取原料：所述高熵合金粉末中各元素的摩尔比为：al:co:cr:fe:ni:cu＝1:1:1:1:2:1。

4.根据权利要求3所述的新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：s3中激光沉积的光斑直径为3～5mm。

5.根据权利要求1、2或4所述的新型双相高熵合金同轴送粉激光沉积的制备方法，其特征在于：所述新型双相高熵合金粉末所用的原料为原子数百分含量...

【专利技术属性】
技术研发人员：果春焕，范庆元，姜风春，高华兵，王同方，
申请(专利权)人：哈尔滨工程大学，
类型：发明
国别省市：