【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造,具体为一种基于分布式多通道采样的amc监测方法及系统。
技术介绍
1、在半导体生产中,amc(airborne molecular contamination,气态分子污染)监测是一项至关重要的技术,用于监测和控制在半导体制造过程中可能存在的空气中的污染物。这些污染物可能来自于环境、设备、材料或操作人员,对半导体生产过程和产品质量造成严重影响。因此,实施有效的amc监测和管理对于确保半导体生产的稳定性、可靠性和高质量至关重要。
2、半导体制造过程对空气中的纯净度要求极高,因为即使微小的气态分子污染物也可能导致晶片缺陷、降低产量和品质,甚至损坏设备。因此,实时监测和管理空气中的气态分子污染是半导体生产中不可或缺的一环。
3、amc监测技术通过使用各种传感器和分析仪器,检测和分析空气中的各种气态分子污染物。这些污染物通常包括有机物、金属有机物、卤素化合物等。常用的监测方法包括气相色谱-质谱联用(gc-ms)、气相色谱-质谱联用-质谱联用(gc-ms-ms)、红外光谱(ir)、拉曼光谱(ram
...【技术保护点】
1.一种基于分布式多通道采样的AMC监测方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种基于分布式多通道采样的AMC监测方法,其特征在于,所述S1包括:
3.根据权利要求2所述的一种基于分布式多通道采样的AMC监测方法,其特征在于:所述S11中各采样点的实时监测数据为:
4.根据权利要求2所述的一种基于分布式多通道采样的AMC监测方法,其特征在于:所述S12中数据预处理操作包括去数据清洗、填补缺失值与MinMax归一化。
5.根据权利要求1所述的一种基于分布式多通道采样的AMC监测方法,其特征在于:所述S2中CNN
...【技术特征摘要】
1.一种基于分布式多通道采样的amc监测方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种基于分布式多通道采样的amc监测方法,其特征在于,所述s1包括:
3.根据权利要求2所述的一种基于分布式多通道采样的amc监测方法,其特征在于:所述s11中各采样点的实时监测数据为:
4.根据权利要求2所述的一种基于分布式多通道采样的amc监测方法,其特征在于:所述s12中数据预处理操作包括去数据清洗、填补缺失值与minmax归一化。
5.根据权利要求1所述的一种基于分布式多通道采样的amc监测方法,其特征在于:所述s2中cnn-gan模型包括生成器与判别器;
6.根据权利要求5所述的一种基于分布式多通道采样的amc监测方法,其特征在于:所述生成器的转置卷积层内设置有批量归一化层与激活函数,其中转置卷积层激活函数包括relu、leakyrelu,进一步的最后一个转置卷积层的激活函数包括tanh、sigmoid。
7.根据权利要求5所述的一种基于分布式多通道采样的amc监测方法,其特征在于:所述第一卷积层与后续卷积层内设置有激活函数,所述后...
【专利技术属性】
技术研发人员:江大白,王枫,胡增,赵洪章,
申请(专利权)人:中用科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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