波前测量装置和波前测量方法制造方法及图纸

本发明专利技术的波前测量装置(1)具备：相位调制部(2)，其具有入射有入射光(L0)的空间光调制器(7)；图案生成部(3)，其生成输入空间光调制器(7)的相位图案(11)；拍摄部(4)，其具有将由空间光调制器(7)调制的入射光(L0)的一部分作为测量光(L1)进行拍摄的拍摄区域(14)；以及解析部(5)，其基于由拍摄部(4)的拍摄结果来解析入射光(L0)的波前，图案生成部(3)，以由空间光调制器(7)调制的测量光(L1)的聚光光斑(16)随时间偏移至拍摄区域(14)的不同位置的方式，生成测量用虚拟图案(12)偏移至彼此不同的位置的多个相位图案(11)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及波前测量装置和波前测量方法。

技术介绍

1、目前，作为对来自光源的光的空间分布进行电气控制并加以调制的器件，已知空间光调制器(slm：spatial light modulator)。空间光调制器具有光波形成形、光脉冲成形、光测量、光运算等各种用途。另外，考虑到激光加工等领域，空间光调制器在光波前测量中的应用也受到期待。

2、例如，在非专利文献1记载的技术中，使用显示了双微透镜阵列图案(dualmicrolens array pattern)的空间光调制器来调制光束，通过摄像机取得由各微透镜分别聚光得到的线性光斑和聚光光斑的从基准位置的位移量。根据线性光斑和聚光光斑的位移量使检测区域位移(shift)，取得各检测区域内的2×2的聚光光斑的位移量，由此测量光束截面内的相位梯度。

3、另外，例如，在非专利文献2记载的技术中，使用显示了微全息图阵列图案(microhologram array pattern)的空间光调制器来调制光束，通过摄像机取得任意的多点光斑的从基准位置的位移量。在非专利文献2中，基于任意的多点光斑的位移量来本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种波前测量装置，其中，

2.根据权利要求1所述的波前测量装置，其中，

3.根据权利要求1所述的波前测量装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的波前测量装置，其中，

5.根据权利要求1～3中任一项所述的波前测量装置，其中，

6.根据权利要求1～5中任一项所述的波前测量装置，其中，

7.根据权利要求1～6中任一项所述的波前测量装置，其中，

8.根据权利要求1～7中任一项所述的波前测量装置，其中，

9.根据权利要求1～8中任一项所述的波前测量装置，其中，

<p>10.一种波前测...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种波前测量装置，其中，

2.根据权利要求1所述的波前测量装置，其中，

3.根据权利要求1所述的波前测量装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的波前测量装置，其中，

5.根据权利要求1～3中任一项所述的波前测量装置，其中，

6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：川合一希，小林觉，加藤义则，关根尊史，森田宇亮，池谷有贵，井口琢斗，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：