【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及手机保护膜制备,具体涉及一种防划手机保护软膜及其制备方法。
技术介绍
1、随着电子技术的发展,智能手机已成为我们生活中不可或缺的一部分,手机保护膜作为手机的“保护者”应运而生,并且需求量不断的增大。手机保护膜绝大部分为pet、pe、pp等绝缘材料,手机保护膜的出现给我们带来了很多便利,同时也带给我们一些麻烦:手机屏幕在多次触屏或与其他物品存放过程中会被刮花的现象,划痕会影响手机整体的美观,严重的会影响正常使用,且在手机使用过程中会产生电磁辐射,电磁辐射会对眼睛造成损害,尤其长时间用手机容易导致眼结膜水分丢失,出现眼睛干涩、疲劳等症状,甚至引起视力下降,因此亟需一种能够降低电磁辐射且避免划痕长时间存在的手机保护膜来解决这些问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种防划手机保护软膜及其制备方法,解决了现阶段手机保护软膜在使用过程中会残留划痕影响美观和正常使用的问题。
2、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现:
3、一种防划手机保护软膜的制备
...【技术保护点】
1.一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:具体包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:所述的改性基膜由如下步骤制成:
3.根据权利要求2所述的一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:步骤A1所述的异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷的用量为氧化石墨烯质量的3-5%。
4.根据权利要求2所述的一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:步骤A2所述的预处理石墨烯、二甲基二乙氧基硅氧烷、硅酸四乙酯、盐酸溶液、去离子水和钛酸四乙酯的用量比为100mg:3mmol:1mmol:3mL:20mL:1
...【技术特征摘要】
1.一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:具体包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:所述的改性基膜由如下步骤制成:
3.根据权利要求2所述的一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:步骤a1所述的异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷的用量为氧化石墨烯质量的3-5%。
4.根据权利要求2所述的一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:步骤a2所述的预处理石墨烯、二甲基二乙氧基硅氧烷、硅酸四乙酯、盐酸溶液、去离子水和钛酸四乙酯的用量比为100mg:3mmol:1mmol:3ml:20ml:1.5mmol。
5.根据权利要求2所述的一种防划手机保护软膜的制备方法,其特征在于:步骤a3所述的改性石墨烯、丁二酸和己二醇的用量比为10g:1mol:1.05mol。
6.根据权利要求1所述的一种防划手机保护软膜的制备...
【专利技术属性】
技术研发人员:李新华,苏灿军,邓剑平,邓学文,
申请(专利权)人:东莞市骏鸿光学材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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