一种静触头、GIL、GIS及母线制造技术

技术编号:42127574 阅读:31 留言:0更新日期:2024-07-25 00:43
本发明专利技术提供了一种静触头、GIL、GIS及母线,属于气体绝缘金属封闭设备领域。该静触头包括静触头本体,静触头本体的外壁上设置有用于阻断金属微粒与静触头本体之间电荷交换的绝缘层。GIL包括上述的静触头。GIS包括上述的静触头。母线包括上述的静触头。本发明专利技术通过在静触头本体上设置绝缘层,能够减小运动至此处的金属微粒的运动速度,使其能够容易被微粒捕捉器所捕获,降低绝缘子出现闪络现象的风险。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于气体绝缘金属封闭设备,特别是涉及一种静触头、gil、gis及母线。


技术介绍

1、gis(气体绝缘金属封闭开关设备)和gil(气体绝缘金属封闭输电线路)产品在制造、装配过程中不可避免地会产生金属微粒,设备通电后金属微粒将会在电场力的作用下沿着筒壁向绝缘子移动,或者沿着导电杆向绝缘子移动,或者在筒壁与导电杆之间往复跳动并逐渐向绝缘子移动,金属微粒运动至绝缘子表面并堆积后将容易出现闪络现象。

2、为解决上述技术问题,现有申请公布号为cn110883016a、申请公布日为2020年03月17日的中国专利技术专利申请公开了一种gil装置及微粒捕捉器,该gil装置包括筒体,筒体内设有中心导体,筒体的端部设置有用于支撑中心导体的绝缘子,筒体端部的内壁上设有微粒捕捉器,微粒捕捉器为筒形且开设有供金属微粒穿过的开孔,微粒捕捉器与筒体内壁之间具有间隔而形成用于收集微粒的屏蔽区。

3、上述技术方案中微粒捕捉器设置在筒体端部的内壁上,主要对沿筒壁向绝缘子移动的金属微粒进行捕捉,而对围绕中心导体跳跃或者沿中心导体移动以及在筒壁和导电杆之间往复本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种静触头,包括静触头本体,其特征是,静触头本体的外壁上设置有用于阻断金属微粒与静触头本体之间电荷交换的绝缘层。

2.根据权利要求1所述的静触头,其特征是,绝缘层为套装在静触头外的筒状的绝缘套。

3.根据权利要求2所述的静触头,其特征是,绝缘套的轴向端部为缩口结构且绝缘套为弹性绝缘套。

4.根据权利要求2所述的静触头,其特征是,绝缘套的轴向端部为缩口结构且开设有便于绝缘套的轴向端部变形以将绝缘套安装在静触头上的豁口。

5.根据权利要求1所述的静触头,其特征是,绝缘层为涂覆在静触头外壁上的绝缘涂层或绝缘层为与静触头一体浇铸的绝缘结构。...

【技术特征摘要】

1.一种静触头,包括静触头本体,其特征是,静触头本体的外壁上设置有用于阻断金属微粒与静触头本体之间电荷交换的绝缘层。

2.根据权利要求1所述的静触头,其特征是,绝缘层为套装在静触头外的筒状的绝缘套。

3.根据权利要求2所述的静触头,其特征是,绝缘套的轴向端部为缩口结构且绝缘套为弹性绝缘套。

4.根据权利要求2所述的静触头,其特征是,绝缘套的轴向端部为缩口结构且开设有便于绝缘套的轴向端部变形以将绝缘套安装在静触头上的豁口。

5.根据权利要求1所述的静触头,其特征是,绝缘层为涂覆在静触头外壁上的绝缘涂层或绝缘层为与静触头一体浇铸的绝缘结构。

6.根据权利要求1-5任一项所述的静触头,其特征是,绝缘层构成用于缓冲金属微粒的缓冲层...

【专利技术属性】
技术研发人员:贺永明钟建英谭盛武魏建巍白玮于丽琴谢世超王刚刘龙贾彩玲井琼琼
申请(专利权)人:平高集团有限公司
类型:发明
国别省市:

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