模型的处理方法、装置及电子设备制造方法及图纸

技术编号:42123592 阅读:18 留言:0更新日期:2024-07-25 00:41
本公开提供了一种模型的处理方法、装置及电子设备,获取目标模型;目标模型包括多个面片模型;面片模型包括多个顶点;顶点具有预设的二维图象坐标;二维图象坐标用于指示顶点在二维图象坐标对应的二维空间中的位置;基于目标模型中的顶点的二维图象坐标,确定目标模型在二维空间的分布参数;基于分布参数,确定目标模型中的待处理模型部分;待处理模型部分与目标模型中除待处理模型部分的其他模型部分在二维空间的分布范围产生重叠。该方式中,基于模型中的顶点的纹理贴图坐标确定模型映射至纹理贴图对应的二维空间中是否有重叠的部分,从而即时发现预设的纹理贴图坐标的错误,提高了对模型的纹理贴图坐标的检查效率,降低了人力成本。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及渲染,具体而言,涉及一种模型的处理方法、装置及电子设备


技术介绍

1、在游戏或动画制作中,通常会为虚拟角色设置头发的纹理渲染信息,以实现所需的头发渲染效果。相关技术中,通常由美术人员对头发的纹理渲染信息进行检查,例如手动选择各个纹理坐标位置,然后查看对应的纹理坐标信息是否出现问题。然而,该方式较为繁琐,人力成本较高,效率较低。


技术实现思路

1、有鉴于此,本公开的目的在于提供一种模型的处理方法、装置及电子设备,以提高了模型的纹理贴图坐标的检查效率,降低人力成本。

2、第一方面,本公开实施例提供了一种模型的处理方法,该方法包括:获取目标模型;目标模型包括多个面片模型;面片模型包括多个顶点;顶点具有预设的二维图象坐标;二维图象坐标用于指示顶点在二维图象坐标对应的二维空间中的位置;基于目标模型中的顶点的二维图象坐标,确定目标模型在二维空间的分布参数;分布参数用于指示多个面片模型在二维空间中的分布范围,以及面片模型中的多个顶点在二维空间中的相对位置;基于分布参数,确定目标模型中的待处理模型部分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种模型的处理方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述分布参数包括所述面片模型在所述二维空间的分布范围参数;

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述面片模型包括多个子面片;所述分布参数包括所述子面片在所述二维空间的分布范围内的顶点数量;

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,通过终端设备提供一图形用户界面;所述图形用户界面显示所述目标模型;

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述待处理模型部分包括所述分布范围与其他面片模型产生重叠区域的面片模型;所述分布参数包括所述面片模型在所...

【技术特征摘要】

1.一种模型的处理方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述分布参数包括所述面片模型在所述二维空间的分布范围参数;

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述面片模型包括多个子面片;所述分布参数包括所述子面片在所述二维空间的分布范围内的顶点数量;

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,通过终端设备提供一图形用户界面;所述图形用户界面显示所述目标模型;

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述待处理模型部分包括所述分布范围与其他面片模型产生重叠区域的面片模型;所述分布参数包括所述面片模型在所述二维空间的分布范围参数;

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述面片模型包括多个子面片;所述分布参数包括所述子面...

【专利技术属性】
技术研发人员:王元龙
申请(专利权)人:网易杭州网络有限公司
类型:发明
国别省市:

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