多层层合结构及其形成方法技术

技术编号:42117643 阅读:29 留言:0更新日期:2024-07-25 00:37
本公开涉及一种多层层合结构,该多层层合结构可包括具有不大于约300微米的厚度的玻璃基底、基于含氟聚合物的层、以及与该基于含氟聚合物的层接触并且位于该玻璃基底和该基于含氟聚合物的层之间的粘合剂层。粘合剂层包含粘合剂组分和第一粘合剂层紫外(UV)吸收剂组分。该多层层合结构可具有不大于1.0%的较低紫外光透射率(L‑UVLT)、不大于5.0%的高紫外光透射率(H‑UVLT)、以及至少约50.0%的可见光透射率(VLT)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及一种多层层合结构及其形成方法。具体地,本公开涉及在用于光伏和oled应用的层合物中使用的多层层合结构及其形成方法。


技术介绍

1、由于其优异的耐候性和自清洁性能,包括含氟聚合物层的多层层合结构已被用作光伏和oled应用的层合物。然而,大多数含氟聚合物材料对紫外辐射也是透明的,并且有机光伏件(opv)中的有机光敏层对紫外降解高度敏感。因此,需要表现出改善的紫外阻挡功能的改进的多层层合结构。


技术实现思路

1、根据第一方面,多层层合结构可包括具有不大于约300微米的厚度的玻璃基底、基于含氟聚合物的层、以及与该基于含氟聚合物的层接触并且位于该玻璃基底和该基于含氟聚合物的层之间的粘合剂层。粘合剂层包含粘合剂组分和第一粘合剂层紫外(uv)吸收剂组分。多层层合结构可具有不大于1.0%的较低紫外光透射率(l-uvlt),其中该多层层合结构的l-uvlt被定义为200nm与360nm之间的透射百分比。多层层合结构还可具有不大于5.0%的高紫外光透射率(h-uvlt),其中该多层层合结构的h-uvlt被定义为360n本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种多层层合结构,包括:

2.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含不大于约0.95%的L-UVLT。

3.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含至少约0.0001%的L-UVLT。

4.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含不大于约4.9%的H-UVLT。

5.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含至少约0.0001%的H-UVLT。

6.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含至少约55.0%的VLT。</p>

7.根据...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种多层层合结构,包括:

2.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含不大于约0.95%的l-uvlt。

3.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含至少约0.0001%的l-uvlt。

4.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含不大于约4.9%的h-uvlt。

5.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含至少约0.0001%的h-uvlt。

6.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含至少约55.0%的vlt。

7.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述多层层合结构包含不大于约99.9%的vlt。

8.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述玻璃基底具有不大于约300微米的厚度。

9.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述玻璃基底具有至少约1微米的厚度。

10.根据权利要求1所述的多层层合结构,其中所述基于含氟聚合物的层的所述基于含氟聚合物的材料包含含氟聚合物。

11.根据权利要求10所述的多层层合...

【专利技术属性】
技术研发人员:R·莫里森G·多拉拉朱S·拉维钱德兰V·普鲁德霍姆M·怀特M·A·阿达姆科
申请(专利权)人:美国圣戈班性能塑料公司
类型:发明
国别省市:

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