一种光刻油墨及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种光刻油墨及其制备方法。本发明专利技术的光刻油墨，以重量份计，包括：改性含氟聚硅氧烷：100份，聚醚醚酮：10份～30份，聚对苯二甲酸丁二醇酯：10份～30份，感光剂：5份～10份，溶剂：10份～200份，改性含氟聚硅氧烷的制备原料为氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯，本发明专利技术的光刻油墨具有优异的成型效果，保证了图案的分辨率和精度。本发明专利技术还提供了光刻油墨的制备方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光刻，具体涉及一种光刻油墨及其制备方法。

技术介绍

1、光刻技术是一种制造微电子器件的关键工艺。它的基本原理是将一张被称为掩模(mask)的模板放置在光敏材料(通常是光刻油墨)覆盖的硅片上方，然后通过紫外光或激光等光源照射到掩模上，通过掩模的透光部分将图案投影到光敏材料表面，形成所需的图案。光刻油墨在这一过程中充当了传递图案的媒介。光刻油墨在半导体制造过程中扮演着重要的角色。它被广泛应用于半导体工业中的光刻技术，用于将图案转移到硅片或其他半导体材料上。

2、光刻油墨通常由聚合物、溶剂、感光剂等组成。其中聚合物是油墨的主要成分，它决定了油墨的黏度、流动性等特性；溶剂用于调节油墨的粘度和干燥速度；感光剂则使得油墨在曝光后能够固化。

3、尽管光刻油墨在半导体制造中发挥着至关重要的作用，但仍然存在一些挑战和问题需要解决。其中一个主要问题是光刻油墨的分辨率和精度。随着集成电路尺寸的不断缩小，对于更高分辨率和更精确的图案要求也在不断增加。因此，如何进一步提高光刻油墨的分辨率和精度，以满足不断发展的半导体制造需求，是当前亟待解决的问本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光刻油墨，其特征在于，以重量份计，包括：

2.根据权利要求1所述的光刻油墨，其特征在于，所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯的质量比为1～3:1～3:1。

3.根据权利要求1或2所述的光刻油墨，其特征在于，所述改性含氟聚硅氧烷的制备方法包括将所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯在催化剂的存在下混合反应的步骤。

4.根据权利要3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的温度为25℃～50℃。

5.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的时间为8h～12h。

6.根据权利要求3所述...

【技术特征摘要】

1.一种光刻油墨，其特征在于，以重量份计，包括：

2.根据权利要求1所述的光刻油墨，其特征在于，所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯的质量比为1～3:1～3:1。

3.根据权利要求1或2所述的光刻油墨，其特征在于，所述改性含氟聚硅氧烷的制备方法包括将所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯在催化剂的存在下混合反应的步骤。

4.根据权利要3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的温度为25℃～50℃。

5.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的时间为8h～12h。

6.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述催化剂包括二...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹万宏，
申请(专利权)人：湖南互力达涂料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：