【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光刻，具体涉及一种光刻油墨及其制备方法。
技术介绍
1、光刻技术是一种制造微电子器件的关键工艺。它的基本原理是将一张被称为掩模(mask)的模板放置在光敏材料(通常是光刻油墨)覆盖的硅片上方，然后通过紫外光或激光等光源照射到掩模上，通过掩模的透光部分将图案投影到光敏材料表面，形成所需的图案。光刻油墨在这一过程中充当了传递图案的媒介。光刻油墨在半导体制造过程中扮演着重要的角色。它被广泛应用于半导体工业中的光刻技术，用于将图案转移到硅片或其他半导体材料上。
2、光刻油墨通常由聚合物、溶剂、感光剂等组成。其中聚合物是油墨的主要成分，它决定了油墨的黏度、流动性等特性；溶剂用于调节油墨的粘度和干燥速度；感光剂则使得油墨在曝光后能够固化。
3、尽管光刻油墨在半导体制造中发挥着至关重要的作用，但仍然存在一些挑战和问题需要解决。其中一个主要问题是光刻油墨的分辨率和精度。随着集成电路尺寸的不断缩小，对于更高分辨率和更精确的图案要求也在不断增加。因此，如何进一步提高光刻油墨的分辨率和精度，以满足不断发展的半导体制造需求，是当前亟待解决的问题之一。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的上述技术问题之一。为此，本专利技术提供了一种光刻油墨，具有优异的成型效果，保证了图案的分辨率和精度。
2、本专利技术还提供了一种光刻油墨的制备方法。
3、本专利技术的第一方面提供了一种光刻油墨，以重量份计，包括：
4、改性含氟聚硅
5、聚醚醚酮：10份～30份，
6、聚对苯二甲酸丁二醇酯：10份～30份，
7、感光剂：5份～10份，
8、溶剂：10份～200份，
9、所述改性含氟聚硅氧烷的制备原料为氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯。
10、本专利技术关于光刻油墨的技术方案中的一个技术方案，至少具有以下有益效果：
11、本专利技术的光刻油墨中，改性含氟聚硅氧烷具有优异的表面张力和润湿性，有助于提高油墨在硅片表面的涂布均匀性，从而实现更高分辨率和更精确的图案转移。改性含氟聚硅氧烷的制备原料为氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯，其中，氟丙烯酸乙酯具有更好的光学性能和化学稳定性，能够提高改性含氟聚硅氧烷在光刻油墨中的润湿性和耐腐蚀性。聚醚改性聚二甲基硅氧烷具有更好的溶解性和流动性，能够增强改性含氟聚硅氧烷在光刻油墨中的分散性和涂布性能。环氧丙烯酸酯具有更高的反应活性和固化速度，能够提高改性含氟聚硅氧烷在光刻油墨中的固化效率和稳定性。
12、其次，聚醚醚酮和聚对苯二甲酸丁二醇酯作为主要聚合物基础，具有较低的线膨胀系数和良好的机械性能，有助于保持图案的稳定性和准确性。
13、第三，感光剂具有高度灵敏的紫外光响应性能，能够在较短的曝光时间内实现快速固化，提高制程效率。
14、第四，聚醚醚酮和聚对苯二甲酸丁二醇酯作为基础聚合物，能够与感光剂良好地相容，促进固化反应的进行。
15、第五，改性含氟聚硅氧烷具有出色的耐高温性和化学稳定性，能够在高温环境下保持油墨的稳定性和图案的清晰度，同时提高电路板的耐久性和可靠性。
16、第六，本专利技术的光刻油墨选用环保型溶剂，并且在配方中含量较低，有助于降低挥发性有机化合物的排放，减少对环境的污染，符合现代环保要求。
17、氟丙烯酸乙酯是一种含氟单体，其主要作用是引入氟元素到聚硅氧烷链上，从而增强聚硅氧烷的疏水性和耐化学腐蚀性。氟丙烯酸乙酯的氟基具有极强的电负性，可以降低改性聚硅氧烷的表面能，使其具有良好的抗粘附性和润湿性。聚醚改性聚二甲基硅氧烷是一种硅氧烷类聚合物，其主要作用是增稠和增强改性含氟聚硅氧烷的粘度和流变性能。聚醚改性可以引入一定数量的醚基团，改善聚硅氧烷的溶解性和分散性，从而使其更易于在油墨中分散和涂布，提高油墨的稳定性和附着力。环氧丙烯酸酯为环氧官能单体，其主要作用是通过与氟丙烯酸乙酯和聚醚改性聚二甲基硅氧烷发生环氧化反应，形成交联结构，从而增强改性含氟聚硅氧烷的耐磨性和机械强度。环氧化反应还可以促进改性聚硅氧烷的固化和硬化过程，提高油墨的耐久性和稳定性。
18、氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯制得的改性含氟聚硅氧烷，氟丙烯酸乙酯引入的氟元素增强了改性聚硅氧烷的疏水性，使其具有良好的润湿性和抗粘附性，有利于油墨在硅片表面的涂布和固化。而聚醚改性聚二甲基硅氧烷提高了改性聚硅氧烷的粘度和流变性能，有助于调节油墨的流动性和稳定性，提高了油墨在光刻过程中的均匀性和精度。环氧丙烯酸酯的交联结构则增强了改性聚硅氧烷的硬度和耐久性，有助于提高油墨的固化速度和表面硬度，从而实现更高质量的光刻图案。
19、根据本专利技术的一些实施方式，氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯的质量比为1～3:1～3:1。
20、根据本专利技术的一些实施方式，所述改性含氟聚硅氧烷的制备方法包括将所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯在催化剂的存在下混合反应的步骤。
21、根据本专利技术的一些实施方式，所述反应的温度为25℃～50℃。
22、根据本专利技术的一些实施方式，所述反应的时间为8h～12h。
23、根据本专利技术的一些实施方式，所述催化剂包括二月桂酸二丁基锡、氢氧化钠和过氧化氢中的至少一种。
24、根据本专利技术的一些实施方式，改性含氟聚硅氧烷的制备方法为：
25、(1)预处理氟丙烯酸乙酯：
26、在干燥的反应容器中，将氟丙烯酸乙酯加入，并通过干燥剂除去水分，确保氟丙烯酸乙酯的干燥纯度。
27、(2)制备反应液：
28、将聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯按照配比加入到氟丙烯酸乙酯中，并添加少量的二氯甲烷作为溶剂，以保持反应液的流动性。
29、(3)加入催化剂：
30、在反应液中加入适量的二月桂酸二丁基锡作为催化剂，促进反应的进行。
31、(4)反应：
32、将反应容器密封并在适当的温度下进行搅拌和加热反应。反应温度一般在室温到50℃之间，反应8h～12h。
33、(5)去除溶剂：
34、反应完成后，通过蒸馏或挥发的方式去除溶剂，使得反应产物浓缩。
35、(6)纯化：
36、将得到的产物经过过滤或凝固、洗涤等纯化步骤，以去除未反应的原料和杂质。
37、(7)干燥：
38、最后将纯化后的改性含氟聚硅氧烷产物进行干燥，以去除残留的溶剂和水分，得到最终产品。
39、根据本专利技术的一些实施方式，催化剂二月桂酸二丁基锡的添加量为氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯总量的0.1wt％～0.5wt％。
40、根据本专利技术的一些实施方式，所述感光剂包括pi-784、pi-1173和pi-369中本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光刻油墨，其特征在于，以重量份计，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻油墨，其特征在于，所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯的质量比为1～3:1～3:1。
3.根据权利要求1或2所述的光刻油墨，其特征在于，所述改性含氟聚硅氧烷的制备方法包括将所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯在催化剂的存在下混合反应的步骤。
4.根据权利要3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的温度为25℃～50℃。
5.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的时间为8h～12h。
6.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述催化剂包括二月桂酸二丁基锡、氢氧化钠和过氧化氢中的至少一种。
7.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述催化剂的添加量为氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯的总量的0.1wt％～0.5wt％。
8.根据权利要求1所述的光刻油墨，其特征在于，所述感光剂包括PI-784、PI-1173和PI-369中的一种。
9.根
10.一种制备如权利要求1至9中任一项所述的光刻油墨的方法，其特征在于，包括先将所述改性含氟聚硅氧烷、聚醚醚酮和聚对苯二甲酸丁二醇酯混合后，加入所述感光剂和溶剂混匀的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种光刻油墨，其特征在于，以重量份计，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻油墨，其特征在于，所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯的质量比为1～3:1～3:1。
3.根据权利要求1或2所述的光刻油墨，其特征在于，所述改性含氟聚硅氧烷的制备方法包括将所述氟丙烯酸乙酯、聚醚改性聚二甲基硅氧烷和环氧丙烯酸酯在催化剂的存在下混合反应的步骤。
4.根据权利要3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的温度为25℃～50℃。
5.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述反应的时间为8h～12h。
6.根据权利要求3所述的光刻油墨，其特征在于，所述催化剂包括二...
【专利技术属性】
技术研发人员：邹万宏，
申请(专利权)人：湖南互力达涂料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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