激光器谐振腔制备方法技术

本申请公开了一种激光器谐振腔制备方法，涉及激光器技术领域。该方法包括：在硅衬底的外延层表面制备第一镀膜层；在所述第一镀膜层上光刻并制备第二镀膜层；进行所述第二镀膜层的剥离；进行所述第一镀膜层的刻蚀；以所述第一镀膜层和所述第二镀膜层为阻挡层，对硅衬底的外延层进行刻蚀，获取激光器谐振腔。上述方案，能够保证获取形态较好的激光器谐振腔的侧壁外表面，以此提升激光器的辐射复合率、外量子效率、电光转换效率、使用寿命等。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于激光器，特别涉及一种激光器谐振腔制备方法。

技术介绍

1、在可见光通信系统中，可见光光源包括发光二极管(light-emitting diode，led)、激光器等发光器件，通信速率、发光效率等指标尤为重要。法布里-珀罗(fabry–pérot，f-p)谐振腔是激光器的重要结构之一，由两个平行平面反射镜组成，光线在两个平面镜之间来回反射，使光束在整个工作物质中来回振荡，最终从透射率高的一端发射，产生激射现象。

2、激光器对f-p谐振腔的表面形貌要求非常高，若表面有过多的缺陷，容易形成非辐射复合过程，从而降低激光器的辐射复合率、内量子效率、电光转换效率等。同时，表面的缺陷容易形成能量中心，对激光器腔面造成损伤，降低其使用寿命。但是现有的制作工艺无法制作出较为合适的激光器谐振腔，无法提升激光器的辐射复合率、外量子效率、电光转换效率、使用寿命等。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种激光器谐振腔制备方法，能够解决现有的制作工艺无法制作出较为合适的激光器谐振腔，无法提升激光器的辐射复合率、外量本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种激光器谐振腔制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在硅衬底的外延层表面制备第一镀膜层，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一厚度通过镀膜方式确定的外延层与第一镀膜层的刻蚀选择比确定。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一镀膜层上光刻并制备第二镀膜层，包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二厚度通过镀膜方式确定的外延层与第二镀膜层的刻蚀选择比确定。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述进行所述第二镀膜层的剥离，包括：<...

【技术特征摘要】

1.一种激光器谐振腔制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在硅衬底的外延层表面制备第一镀膜层，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一厚度通过镀膜方式确定的外延层与第一镀膜层的刻蚀选择比确定。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一镀膜层上光刻并制备第二镀膜层，包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二厚度通过镀膜方式确定的外延层与第二镀膜层的刻蚀选择比确定。

6.根据权利要求1所述的方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：易淑兰，王军飞，沈超，夏亮，王启星，程执天，
申请(专利权)人：中国移动通信有限公司研究院，
类型：发明
国别省市：