一种反应釜加工用抛光设备制造技术

本技术涉及反应釜加工技术领域，尤其涉及一种反应釜加工用抛光设备，针对背景技术提出现有反应釜抛光组件缺少对反应釜自动上下料结构的问题，现提出以下方案，包括底板，所述底板的顶部外表一侧安装有四个呈矩形状分布的支柱，且四个支柱的顶端固定有同一个安置板，所述安置板的顶部外表安装有调节组件。本技术另一个C形板可在两个电动导轨的驱动下调节与另一个C形板之间的间距，适配不同长度的反应釜，然后C形板内的两个挤压板可在四个气缸的运行下对反应釜进行夹紧，完成固定工作，然后两个上料组件可调节放置组件的高度，即调节反应釜的高度，实现自动上料和固定反应釜的效果，提高了工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及反应釜加工，尤其涉及一种反应釜加工用抛光设备。

技术介绍

1、现有化工设备如反应釜等大型筒体的内侧壁上一般需要进行抛光打磨，而现有的反应釜内部比较深，而且面积大，人工打磨抛光效果差，耗时间，效率非常低，大大增加人工劳动量，增加制造成本，因此有些加工设备厂甚至省去了对内壁的抛光打磨，从而影响了反应釜内胆的质量。

2、经检索，中国专利公开号为cn110744427a的专利，公开了一种反应釜内胆抛光机构，包括安装底架，所述安装底架上安装有提升机构，提升机构的顶部安装有主提升板，主提升板的顶面的左部和右部均固定有竖直板，横向螺杆的两端通过轴承铰接在两个竖直板上，其中一个竖直板的外侧壁上固定有驱动电机，驱动电机带动横向螺杆转动，移动块螺接在横向螺杆中，移动块的顶面固定有上连接水平板，上连接水平板的右部的顶面固定有旋转驱动伺服电机，上连接水平板的左部顶面固定有主支撑板，主支撑板上铰接有横向主旋转轴。它可以对内部比较深的反应釜等内胆进行自动打磨，其打磨方便，效果好，大大降低人工劳动量。

3、上述专利中的一种反应釜内胆抛光机构存在以下不足本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种反应釜加工用抛光设备，包括底板(1)，其特征在于，所述底板(1)的顶部外表一侧安装有四个呈矩形状分布的支柱，且四个支柱的顶端固定有同一个安置板(2)，所述安置板(2)的顶部外表安装有调节组件，且调节组件顶端安装有抛光组件(7)，所述底板(1)的顶部外表另一侧安装有两个对称分布上料组件(8)，且两个上料组件(8)的一端固定有同一个放置组件(9)。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜加工用抛光设备，其特征在于，所述调节组件包括两个第一电动滑轨(3)，且两个第一电动滑轨(3)对称固定于安置板(2)的顶部外表，两个第一电动滑轨(3)的滑动件顶部外表安装有横板(4)，且横板(4...

【技术特征摘要】

1.一种反应釜加工用抛光设备，包括底板(1)，其特征在于，所述底板(1)的顶部外表一侧安装有四个呈矩形状分布的支柱，且四个支柱的顶端固定有同一个安置板(2)，所述安置板(2)的顶部外表安装有调节组件，且调节组件顶端安装有抛光组件(7)，所述底板(1)的顶部外表另一侧安装有两个对称分布上料组件(8)，且两个上料组件(8)的一端固定有同一个放置组件(9)。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜加工用抛光设备，其特征在于，所述调节组件包括两个第一电动滑轨(3)，且两个第一电动滑轨(3)对称固定于安置板(2)的顶部外表，两个第一电动滑轨(3)的滑动件顶部外表安装有横板(4)，且横板(4)的顶部外表安装有第二电动滑轨(5)，第二电动滑轨(5)的滑动件顶部外边安装有安装板(6)。

3.根据权利要求1所述的一种反应釜加工用抛光设备，其特征在于，所述抛光组件(7)包括电机(71)，且电机(71)通过螺栓固定于安装板(6)上，电机(71)的输出端连接有转轴(72)，且转轴(72)的一端安装有连接盘(73)，连接盘(73)的一边外表安装有延伸板(74)，且延伸板(74)远离连接盘(73)的两边外表均安装有电动机(75)，两个电动机(75)的输出轴一端分别套接有抛光盘(76)。

4.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶康旭，
申请(专利权)人：安徽金诺流体设备制造有限公司，
类型：新型
国别省市：