【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷制备,具体涉及用于制备氧化锆陶瓷的混合物、氧化锆陶瓷及其制备方法和应用。
技术介绍
1、氧化锆陶瓷因耐高温、耐侵蚀等优点,广泛应用于气雾化、水雾化、等离子雾化、金属熔炼等坩埚、管道、水口等部位对金属进行熔炼和再加工粉体制备。氧化锆因高温四方相向低温单斜相过渡时存在较大的体积膨胀,一般会引入稳定剂进行稳定。常见稳定剂是稀土或碱土氧化物,而且只有离子半径与zr半径相近的氧化物才能作为zro2的稳定剂。
2、稳定型二氧化锆相对比普通铝硅质耐火材料具备更高的耐火度、化学稳定性、热稳定性,并且高温分解压较低,满足高温金属对冶炼和粉体的制备要求。选择稳定型氧化锆作为金属液体容器对高纯金属的制备具有重大意义。为进一步优化和提高稳定型氧化锆的耐温性、抗热冲击性及金属的反应惰性,需严格控制杂质含量,减少低熔点烧结助剂以及o、n、s等杂质引入。较常用的氧化锆陶瓷稳定剂有y2o3、mgo、cao。
3、氧化钇稳定氧化锆烧结活性好,结晶度高,如cn 101239834a公开了一种氧化钇掺杂氧化锆坩埚及其采用热压烧结制坩
...【技术保护点】
1.一种用于制备氧化锆陶瓷的混合物,其特征在于,以所述混合物的总重量为基准,所述混合物中含有92-98wt%的ZrO2、4-8wt%的CaO、0-0.12wt%的Fe2O3、0-0.35wt%的Al2O3、0-0.20wt%的TiO2、0-0.45wt%的SiO2和0-0.08wt%的R2O;其中,R2O选自Na2O和/或K2O;
2.根据权利要求1所述的混合物,其特征在于,M1为12-26wt%,M2为8-25wt%,M3为8-12wt%,M4为8-15wt%,M5为12-30wt%,M6为2-6wt%,M7为5-10wt%。
3.根据权利要
...【技术特征摘要】
1.一种用于制备氧化锆陶瓷的混合物,其特征在于,以所述混合物的总重量为基准,所述混合物中含有92-98wt%的zro2、4-8wt%的cao、0-0.12wt%的fe2o3、0-0.35wt%的al2o3、0-0.20wt%的tio2、0-0.45wt%的sio2和0-0.08wt%的r2o;其中,r2o选自na2o和/或k2o;
2.根据权利要求1所述的混合物,其特征在于,m1为12-26wt%,m2为8-25wt%,m3为8-12wt%,m4为8-15wt%,m5为12-30wt%,m6为2-6wt%,m7为5-10wt%。
3.根据权利要求1或2所述的混合物,其特征在于,所述混合物由84-97wt%的稳定化氧化锆粉和3-16wt%的原料氧化锆粉提供。
4.根据权利要求3所述的混合物,其特征在于,所述稳定化氧化锆粉由锆英砂经电熔法制备得到。...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨懿,胡恒广,闫冬成,张广涛,刘泽文,叶润,刘晓飞,
申请(专利权)人:河北光兴半导体技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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