步进输送机构及输送设备制造技术

技术编号:42087315 阅读:25 留言:0更新日期:2024-07-19 17:02
本技术公开了步进输送机构及输送设备,步进输送机构包括:机架、定位组件、凸轮组件和输送组件;机架沿输送方向设有固定区和转移区,固定区具有用于承载硅片的承载面,转移区内设有转移件,转移件具有能够承载硅片的转移面;定位组件设置于承载面和/或转移面,定位组件沿输送方向形成有多个用于定位硅片的放置位;凸轮组件传动连接于转移件,用于沿第一方向往复移动转移件,第一方向相交于承载面,以驱动转移件高于承载面或转移面低于承载面;输送组件传动连接于凸轮组件,用于沿输送方向往复移动凸轮组件。能够提高硅片输送后的位置精度,提高良品率。本技术应用于锂电池制作领域。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及锂电池制作领域,特别涉及步进输送机构及输送设备


技术介绍

1、pecvd工艺中,将硅片从载板取下后需输送至下一工位加工,或在加工后再将硅片重新装入载板或花篮等治具,需要用到输送线输送硅片。

2、现有的硅片输送线多是采用传动带结构,即由步进电机控制传送带前进预设的距离,但以传送带进行输送时,传送带的输送面与硅片的外表面之间主要通过摩擦力进行输送,但硅片表面较为光滑,易相对传送带的输送面滑动窜位,降低硅片的位置精度,影响硅片后续制作,易因为位置偏差而导致不良品产生。


技术实现思路

1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术提出一种步进输送机构,能够提高硅片输送后的位置精度,提高良品率。

2、本技术还提出一种具有上述步进输送机构的输送设备。

3、根据本技术第一方面实施例的步进输送机构,包括:

4、机架,沿输送方向设有固定区和转移区,所述固定区具有用于承载硅片的承载面,所述转移区内设有转移件,所述转移件具有能够承载硅片的转移面;

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【技术保护点】

1.一种步进输送机构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的步进输送机构,其特征在于:所述固定区包括多个沿第二方向间隔设置的固定分区,所述第二方向相交于所述输送方向,所述转移区包括至少一个转移分区,所述转移分区设置于两相邻且间隔的所述固定分区之间。

3.根据权利要求1所述的步进输送机构,其特征在于:所述转移区包括多个沿第二方向间隔设置的转移分区,所述第二方向相交于所述输送方向,所述固定区包括至少一个固定分区,所述固定分区设置于两相邻且间隔的所述转移分区之间。

4.根据权利要求1所述的步进输送机构,其特征在于:所述定位组件包括多个沿所述输送方向依次...

【技术特征摘要】

1.一种步进输送机构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的步进输送机构,其特征在于:所述固定区包括多个沿第二方向间隔设置的固定分区,所述第二方向相交于所述输送方向,所述转移区包括至少一个转移分区,所述转移分区设置于两相邻且间隔的所述固定分区之间。

3.根据权利要求1所述的步进输送机构,其特征在于:所述转移区包括多个沿第二方向间隔设置的转移分区,所述第二方向相交于所述输送方向,所述固定区包括至少一个固定分区,所述固定分区设置于两相邻且间隔的所述转移分区之间。

4.根据权利要求1所述的步进输送机构,其特征在于:所述定位组件包括多个沿所述输送方向依次分布的第一定位件,所述第一定位件沿所述输送方向的至少一端形成为用于定位硅片的第一限位面。

5.根据权利要求4所述的步进输送机构,其特征在于:所述第一定位件沿所述输送方向的两端均形成为用于定位硅片的第一限位面,两相邻所述第一定位件之间的所述第一限位面相对形成所述放置位。

6.根据权利要求5所述的步进输送机构,其特征在于:所述第一定位件包括第一基体、突...

【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名
申请(专利权)人:广东利元亨智能装备股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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