【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及铜箔制备装置,更详细地,涉及如下的铜箔制备装置,即,当使用电镀方式生产超极薄板的铜箔时,可提高导电率来最大限度地减少发热,并且,可最大限度地提高电镀效率来提高电镀速度并实现均匀的电镀质量。
技术介绍
1、通常,铜箔制备方式有利用辊的压延方式及电镀方式。
2、上述铜箔广泛应用于包括智能手机、笔记本电脑等在内的各种移动产品或包括电子设备及汽车在内的多种工业领域的各种电子装置。
3、而且,在上述各种电子装置的印刷电路板(pcb)中,用于电路线、锂二次电池等的铜箔也可根据需求形成为0.01t~0.05t的极薄板,或者,被制成0.01t~0.001t左右的极微厚度的超极薄板。
4、然而,在使用上述压延方式制备压延铜箔的情况下,若想要制成薄厚度,则需要经过多次压延过程,因此,其价格也随之增加。而且,压延铜箔的宽度最大不能超过60cm,在宽度超过60cm的情况下,由于表面状态变得非常不均匀,因此,不仅导致质量变差,而且,将失去商品性。
5、并且,上述压延方式存在局限性,无论铜板经过多少次的
...【技术保护点】
1.一种铜箔制备装置,其特征在于,
2.根据权利要求1所述的铜箔制备装置,其特征在于,电极板(200)在弯曲的内表面还设置催化反应电极(400),从而通过良好的电解液的催化反应来增加铜的析出效率。
3.根据权利要求2所述的铜箔制备装置,其特征在于,催化反应电极(400)沿着边缘形成有多个紧固孔(410),当借助紧固孔(410)通过螺栓(420)来将催化反应电极(400)设置在电极板(200)的内表面时,催化反应电极(400)仅紧固在外部部件(220)以防止螺栓(420)接触到由铜材料制成的内部部件(210)。
4.根据权利要求1所述
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种铜箔制备装置,其特征在于,
2.根据权利要求1所述的铜箔制备装置,其特征在于,电极板(200)在弯曲的内表面还设置催化反应电极(400),从而通过良好的电解液的催化反应来增加铜的析出效率。
3.根据权利要求2所述的铜箔制备装置,其特征在于,催化反应电极(400)沿着边缘形成有多个紧固孔(410),当借助紧固孔(410)通过螺栓(420)来将催化反应电极(...
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