视场可调的低维材料光学信号检测系统技术方案

本发明专利技术涉及材料检测技术领域，具体涉及一种视场可调的低维材料光学信号检测系统，主要解决现有低维材料的光学信号检测系统不能检测低维材料各向异性和自旋谷极化等物理性质的技术问题。本系统包括样品架、磁体结构、激发光路、成像光路和检测光路，通过第一旋转偏振器能够产生不同偏振角度的激光，通过第二旋转偏振器能够获取不同偏振分量的光学信号，同时样品架处于磁场环境中，利用磁光效应，通过对偏振状态的分析检测能够获取低维材料光学各向异性和自旋谷极化等物理性质；同时，本系统还设有成像光路，通过更换或调节高倍物镜和平凸透镜能够实现视场可调的高分辨率成像，更利于对待测位置的精准定位。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料检测，尤其涉及一种视场可调的低维材料光学信号检测系统。

技术介绍

1、由于低维材料独特的空间结构、电学性能以及热学性能，关于低维材料的研究近年发展迅速，低维材料在微电子领域、生物检测领域和电池领域具有广泛的应用前景。

2、现有技术中，低维材料的光学信号检测系统一般仅能通过光的强度、波长和相位等参数的分析检测反映低维材料的物理性质，但对于光学各向异性和自旋谷极化等部分物理性质，仅通过光的强度、波长和相位等参数是无法检测的，所以亟需一种能够检测低维材料光学各向异性和自旋谷极化等物理性质的光学信号检测系统。

技术实现思路

1、为克服现有低维材料的光学信号检测系统存在的不能检测低维材料各向异性和自旋谷极化等物理性质的技术缺陷，本专利技术提供了一种视场可调的低维材料光学信号检测系统。

2、本专利技术提供的视场可调的低维材料光学信号检测系统，包括：

3、样品架，其用于放置待测低维材料；

4、磁体结构，其用于为所述样品架提供磁场环境；p>

5、激发光本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种视场可调的低维材料光学信号检测系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的视场可调的低维材料光学信号检测系统，其特征在于，所述磁体结构（2）为环形磁铁，所述环形磁铁可拆卸固定在所述样品架（1）上且所述环形磁铁的中部用于放置待测低维材料（100）。

3.根据权利要求1所述的视场可调的低维材料光学信号检测系统，其特征在于，所述激发光路还包括第一滤光片（14），所述第一滤光片（14）位于所述激光器（3）与第一旋转偏振器（4）之间。

4.根据权利要求1所述的视场可调的低维材料光学信号检测系统，其特征在于，所述检测光路还包括第二滤光片（15），所述...

【技术特征摘要】

1.一种视场可调的低维材料光学信号检测系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的视场可调的低维材料光学信号检测系统，其特征在于，所述磁体结构（2）为环形磁铁，所述环形磁铁可拆卸固定在所述样品架（1）上且所述环形磁铁的中部用于放置待测低维材料（100）。

3.根据权利要求1所述的视场可调的低维材料光学信号检测系统，其特征在于，所述激发光路还包括第一滤光片（14），所述第一滤光片（14）位于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：温焕飞，田野，唐军，刘俊，李亮杰，崔粉芳，刘来，
申请(专利权)人：中北大学，
类型：发明
国别省市：