等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种等离子体处理装置。其对被处理体进行面内均匀性高的等离子体处理。以隔着电介质窗部件（３）与载置台（２７）相对的方式设置天线（５）。该天线（５），由各个长度相等、相互横向平行排列的直线状的多个天线部件（５１）构成。该天线（５）的一端侧通过电源侧电路（６１）连接至高频电源部（６），并且其另一端侧通过接地侧电路（６２）连接至接地点。在上述电源侧电路（６１）和接地侧电路（６２）的至少一方，设置有用于调整天线（５）的电位分布的电位分布调整用的电容器（７），从所述高频电源部（６）通过各天线部件（５１）至接地点的各高频路径的阻抗被设定为相互相等。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对例如FPD(平板显示器)制造用的玻璃基板等的被处理体等进行规 定的等离子体处理的技术。
技术介绍
在FPD的制造工序中，存在对LCD(液晶显示器)基板等的被处理体实施蚀刻处 理、成膜处理等的规定的等离子体处理的工序。作为进行这些工序的等离子体处理装置，例 如利用感应耦合等离子体(ICP)的等离子体处理装置，由于能够生成高密度的等离子体而 受到关注。该感应耦合等离子体处理装置例如能够按照如下所述方式构成通过电介质部 件将处理容器上下划分，在其下方侧的处理空间设置基板的载置台，并且在其上方侧的空 间配置高频(RF)天线，通过对该天线供给高频电力，在上述处理空间内形成感应耦合等离 子体，由此将供给至该处理空间内的处理气体等离子体化，从而进行规定的等离子体处理。 作为在这样的感应耦合等离子体处理装置中使用的天线，通常使用天线线平面地 巻成环状的螺旋天线。而且对于大型的被处理体，天线的阻抗变大，因此进行将多个螺旋天 线组合使用。但是FPD基板用的玻璃基板越来越大型化，因此每一根的螺旋天线也变长，所 以使得阻抗增大，与此相应地高频电流减少，有可能无法得到高密度的等离子体。 因此，为了使阻抗降低，存在增加天线的分支数、使每一根螺旋天线变短、在天线 的终端或中间部插入电容器的方法，但在这种情况下天线的结构复杂化，操作变难，而且被 处理体的面方向上的天线电位的调整作业也变得烦杂，其结果是，存在难以获得均匀性较 高的等离子体的问题。 因此本专利技术的专利技术者们，对于将天线形成为直线形状縮短天线的长度，由此使阻 抗降低的结构进行了研究。但是使用直线形状的天线构成大型的天线时，需要排列多个天 线，该情况例如如图27所示，在只是将多个同样长度的天线11相互平行地隔开规定的间隔 排列，将各天线11的两端与导线12、13连接，将一方的导线12与具备高频电源和匹配器的 高频电源部14连接，并且将另一方的导线13接地的结构中，因为从供电点经各天线11至 接地点的路径的阻抗在各天线11间不同，在各天线11中流通的电流的大小不同，相对于被 处理体的面方向难以产生均匀性较高的等离子体。 另一方面，在专利文献1中记载有，在使用直线形状的天线生成感应耦合等离子 体的装置中，具备将8个直线状的金属导体元件51 58相互平行地配置的平面线圈34的 结构。在这些元件51 58中，中央的两根元件54、55，被设定为分别到与电缆67、72连接 的端子62、64的电长度相等。 但是在该装置中，随着朝向平面线圈34的外侧，从电缆67经由元件51 58至 电缆72的路径的电长度的变化变大，其结果是在平面线圈34的面内不能够得到均匀的阻 抗。此外在该装置中，例如以对具有一边为75cmX85cm大小的平面矩形构造的液晶显示 器进行处理为目的，将上述各导体元件51 58的长度，设定为从高频源38被感应的频率 (13. 56MHz)的波长(22. 53m)的约1/16，即1. 41m左右，由此使各导体元件51 58的电流和电压的变动不变大。 但是近年基板有越来越大型化的趋势，也有对一边为2m左右的更大的玻璃基板 进行处理的情况，对于专利文献1的金属导体元件51 58的长度，相对于这样大的玻璃基 板难以进行均匀性较高的等离子体处理。此外，如果将金属导体元件51 58增长至2m以 上，则阻抗增加，因此，从这一方面来看解决本专利技术的课题也是困难的。 专利文献1 :特表2001-511945号公报(图2)
技术实现思路
本专利技术鉴于上述的状况而完成，其目的是提供在利用天线使感应耦合等离子体生成，对被处理体进行等离子体处理的装置中，能够抑制天线的阻抗的增加，并且调整被处理 体的面方向的电场分布，由此能够调整等离子体密度分布的等离子体处理装置。 因此本专利技术的等离子体处理装置，其使被供有处理气体的处理容器内产生感应电场，将处理气体等离子体化并且对被载置于处理容器内的载置台的被处理体进行等离子体处理，该等离子体处理装置的特征在于，包括 天线，其以隔着处理气氛与上述载置台相对的方式被设置于该处理气氛之外，并且包括各个长度相等的、相互横向平行地排列而构成的多个直线状的天线部件； 用于将高频电力供给至上述天线的高频电源部； 用于将上述天线的一端侧与上述高频电源部连接的电源侧电路； 用于将上述天线的另一端侧与接地点连接的接地侧电路；禾口 电位分布调整用的电容器，其被设置在上述电源侧电路和接地侧电路的至少一 方、并且用于对天线的电位分布进行调整， 从上述高频电源部通过各天线部件至接地点的各高频路径的阻抗被设定为相互 相等。 另外，本专利技术的等离子体处理装置，其使被供有处理气体的处理容器内产生感应 电场，将处理气体等离子体化并且对被载置于处理容器内的载置台的被处理体进行等离子 体处理，该等离子体处理装置的特征在于，包括 天线，其以隔着处理气氛与上述载置台相对的方式被设置于该处理气氛之外，并且包括各个长度相等的、相互横向平行地排列而构成的多个直线状的天线部件； 用于将高频电力供给至上述天线的高频电源部； 用于将上述天线的一端侧与上述高频电源部连接的电源侧电路； 用于将上述天线的另一端侧与接地点连接的接地侧电路； 电位分布调整用的电容器，其被设置在上述电源侧电路和接地侧电路的至少一 方、并且用于对天线的电位分布进行调整；禾口 阻抗调整用的电容器，其被设置在上述电源侧电路和接地侧电路的至少一方、并 且用于对从上述高频电源部通过各天线部件到上述接地点的高频路径的阻抗进行调整。 也可以构成为天线部件彼此之间的间隔能够自由调整，在该情况下，也可以例如 上述天线部件的一端侧和另一端侧，与在天线部件的排列方向上自由移动的移动部连接。 此外，也可以例如各个长度相等的多个直线状的天线部件形成相互相邻并且相互 并联连接而成的节段，该节段被配置有多个，在此，优选配置有偶数个上述节段，上述电源5侧电路和接地侧电路，按照在各节段之间上述高频路径的物理长度相等的方式，将相互相 邻的节段彼此之间连线，并台阶状地配线为决定线路的组合的线图状。进一步，优选在任意 一个节段中上述天线部件的排列间隔都相等。 此外，进一步，也可以上述天线包括多个天线部件相互以第一间隔排列而成的多 个密部区域；和设置在这些密部区域彼此之间的、并且多个天线部件相互以比第一间隔更 大的第二间隔排列而成的疏部区域。在此，上述第一间隔能够为构成上述节段的天线部件 的间隔，上述第二间隔能够为相互相邻的节段彼此之间的间隔。构成为上述节段彼此之间 的间隔能够自由调整。此外，上述节段的一端侧和另一端侧，与例如在上述节段的排列方向 上自由移动的移动部连接。 此外，进一步，也可以构成为具备用于划定上述处理气氛而设置在上述载置台和 天线之间的电介质窗部件，该电介质窗部件包括以与上述载置台相对的方式设置的多个 板状的电介性部件；和用于支承该电介性部件，沿上述电介性部件的长度方向，以与上述天 线部件正交的方式设置的多个分隔部。 在此，优选在上述分隔部的内部形成有处理气体室，并且在分隔部的下表面，形成 有用于将处理气体供给至上述处理容器而与上述处理气体室连通的气体供给孔。此外，优 选上述多个分隔部分别以通过悬挂支承部从上述处理容器的顶部被悬吊的方式设置，在该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体处理装置，其使被供有处理气体的处理容器内产生感应电场，将处理气体等离子体化并且对被载置于处理容器内的载置台的被处理体进行等离子体处理，该等离子体处理装置的特征在于，包括：天线，其以隔着处理气氛与所述载置台相对的方式被设置于该处理气氛之外，并且包括各个长度相等的、相互横向平行地排列而构成的多个直线状的天线部件；用于将高频电力供给至所述天线的高频电源部；用于将所述天线的一端侧与所述高频电源部连接的电源侧电路；用于将所述天线的另一端侧与接地点连接的接地侧电路；和电位分布调整用的电容器，其被设置在所述电源侧电路和接地侧电路的至少一方、并且用于对天线的电位分布进行调整，从所述高频电源部通过各天线部件至接地点的各高频路径的阻抗被设定为相互相等。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：齐藤均，佐藤亮，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]