一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法、系统及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法、系统及装置，方法包括如下步骤：获取水稻在低温胁迫处理阶段和恢复阶段的数据；根据T<subgt;max</subgt;、T<subgt;min</subgt;、T<subgt;h</subgt;计算低温胁迫处理阶段的ACDD<subgt;i</subgt;；根据低温胁迫处理阶段的ACDD<subgt;i</subgt;计算低温胁迫处理阶段的ε和FT；根据T<subgt;base</subgt;、T<subgt;max</subgt;、T<subgt;min</subgt;计算恢复阶段的GDD；根据低温胁迫结束当天的ACDD<subgt;e</subgt;和GDD计算恢复阶段的FT；根据恢复阶段的FT计算恢复阶段残留的ACDD<subgt;i</subgt;，并将计算结果作为计算下一低温胁迫处理阶段的FT的输入值；根据P<subgt;o,max</subgt;、PAR、R<subgt;d</subgt;、ε和FT计算P<subgt;n</subgt;。本发明专利技术可以更好模拟出不同持续时间低温胁迫对光合作用影响的差异。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于作物培育预测，具体涉及一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法、系统及装置。

技术介绍

1、水稻是世界主要粮食作物之一，全球有50%以上的人口以水稻为主食，且这一数字预计将在2050年达到78%。但全球气候变化导致极端气候事件频发，特别是低温冷害对起源于热带和亚热带的水稻生产带来了较大挑战。在高海拔和高纬度地区，低温胁迫是限制水稻产量提升的主要气候因素之一。稻米生产力在很大程度上取决于其光合作用能力，而光合作用在低温胁迫下会受到严重影响。因此，在低温胁迫下准确估计稻米光合作用对评估气候变化对稻米生产的影响至关重要。

2、水稻的光合能力受到各种因素的影响，例如水分、温度、光照强度、co2浓度和矿质营养，并且在关键阶段对温度应激非常敏感。水稻的光合作用能力在很大程度上取决于叶片的叶绿素合成和光合酶活性，这些在开花期间均受到低温胁迫的抑制。有研究表明在开花期间，一些光合特性（例如最大光合速率pmax、初始光利用效率ε和叶片气孔导度等）在低温胁迫下显著下降。此外，pmax和ε与稻米的干物质积累高度相关，表明在低温胁迫下干物质积累可能受阻。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，S2包括如下子步骤：

3.根据权利要求1所述的一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，

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【技术特征摘要】

1.一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，s2包括如下子步骤：

3.根据权利要求1所述的一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的一种水稻花后低温胁迫下光合作用的模拟方法，其特征在于，s5包括如下子步骤：

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【专利技术属性】
技术研发人员：肖浏骏，康敏，朱艳，王偲媛，安敬威，汤亮，刘兵，刘蕾蕾，曹卫星，
申请(专利权)人：南京农业大学，
类型：发明
国别省市：