一种具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,包括以下步骤：步骤S1:将聚四氟乙烯平板进行热压预处理；步骤S2:将步骤S1所得聚四氟乙烯平板经激光加工,得到具有密集微孔阵列的聚四氟乙烯模板；步骤S3：基于步骤S2所得聚四氟乙烯模板组装成用于热压TPU薄膜的热压组件；步骤S4:将步骤S3所得热压组件置于真空压膜机上进行热压,热压完成后剥离,即得具有表面微结构阵列的超疏水TPU薄膜。本发明专利技术具有的优点是克服了以往制备过程中出现的步骤繁琐、操作复杂、工艺条件要求高的问题，并且不需要进行后续的低表面能处理就可以达到超疏水性，制备模板后可便捷地实现超疏水微结构的多次大量制备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及超疏水薄膜，尤其涉及一种具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法。

技术介绍

1、研究表明，要使材料能够负载液体而不被浸润、具有较大的接触角，应当从两个方面进行改进，一是使材料具有低的表面能，二是增加材料表面的粗糙度。由于表面能涉及到材料自身的化学组成，因此，人们更多的着眼于通过材料表面的结构设计增大粗糙度，从而对表界面润湿性能的调控实现对表界面浸润性能的调控。目前，制备超疏水表面可选的方法和材料很广泛，包括刻蚀法、自组装、化学沉积法、电化学法等。但是，这些方法往往都有着一些缺陷，例如步骤繁琐、操作复杂；难以控制表面形貌；耐久性差、机械强度低等，这些问题限制了超疏水材料在实际中的应用。如何简单快捷地制备具有良好应用价值的超疏水材料仍是目前亟待解决的一个难题。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法，克服了以往制备过程中出现的步骤繁琐、操作复杂、工艺条件要求高的问题，并且不需要进行后续的低表面能处理就可以达到超疏水性，制备模板后本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,其特征在于,在步骤S2中,所得聚四氟乙烯模板的微孔直径在25μm以内。

3.根据权利要求1所述的具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,其特征在于,在步骤S4中,所述超疏水TPU薄膜具有微米级的凸起阵列,每个凸起上覆盖有亚微米级或纳米级的绒毛结构；其中,所述超疏水TPU薄膜的接触角大于160°,滚动角小于10°。

4.根据权利要求1所述的具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法，其特征在于,在步骤S1中,所述...

【技术特征摘要】

1.一种具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,其特征在于,在步骤s2中,所得聚四氟乙烯模板的微孔直径在25μm以内。

3.根据权利要求1所述的具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,其特征在于,在步骤s4中,所述超疏水tpu薄膜具有微米级的凸起阵列,每个凸起上覆盖有亚微米级或纳米级的绒毛结构；其中,所述超疏水tpu薄膜的接触角大于160°,滚动角小于10°。

4.根据权利要求1所述的具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法，其特征在于,在步骤s1中,所述聚四氟乙烯平板的热压温度为180℃～220℃,热压时间为5min～30min。

5.根据权利要求1所述的具有表面微结构阵列的超疏水薄膜的制备方法,其特征在于,在步骤s2中,激光加工功率为10w-20w，加工速度和脉冲频率的比值等于脉冲点的间距。

6.根据权利要求5所述的具有表面微结构阵列的...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵延军，尚玉虎，郑国强，王俞众，何清叶，石九龙，任昆仑，杨国军，曹顺利，代坤，刘春太，
申请(专利权)人：郑州大学，
类型：发明
国别省市：