【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及压纹白垫,具体为一种用于晶体表面抛光的压纹白垫及其生产工艺。
技术介绍
1、抛光垫又称抛光皮,抛光布,抛光片,晶体表面抛光中决定表面质量的重要辅料,公开号为cn114918823b的中国专利公开了一种大尺寸衬底抛光用白垫及其生产工艺,属于抛光垫领域,在进行抛光研磨工作时,第三抛光白垫的外部受到抛光元件的挤压,受到的压力可经过三层的缓冲,可通过第一抛光垫连接板和第二抛光垫连接板内部本身的弹性,进一步提高高速研磨过程中的缓冲能力,提高抛光研磨效果,有效提升抛光的工作质量。但是,该专利存在以下缺陷:
2、现有的白垫在使用时,在抛光过程中易产生高温,其白垫散热性能差,导致白垫易损坏,使用寿命短。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种用于晶体表面抛光的压纹白垫及其生产工艺,可对压纹白垫进行高效散热,提升压纹白垫的散热性能,避免压纹白垫损坏,可提升压纹白垫的使用寿命,解决了上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
>3、一种用于本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于晶体表面抛光的压纹白垫,包括支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3),其特征在于,所述抛光层(3)粘接在弹性层(2)的上表面,所述弹性层(2)粘接在支撑层(1)的上表面,其中,支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3)的厚度比为1:1:2-3。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫,其特征在于,所述支撑层(1)包括基底层(11)、面盖层(12)、横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14),所述基底层(11)的内侧设置有横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14),所述横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)横纵交错分布,所述基底层(11)的
...【技术特征摘要】
1.一种用于晶体表面抛光的压纹白垫,包括支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3),其特征在于,所述抛光层(3)粘接在弹性层(2)的上表面,所述弹性层(2)粘接在支撑层(1)的上表面,其中,支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3)的厚度比为1:1:2-3。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫,其特征在于,所述支撑层(1)包括基底层(11)、面盖层(12)、横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14),所述基底层(11)的内侧设置有横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14),所述横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)横纵交错分布,所述基底层(11)的顶部设置有面盖层(12),所述面盖层(12)覆盖在横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)上。
3.根据权利要求2所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫,其特征在于,所述弹性层(2)包括上缓冲层(21)和下缓冲层(22),所述上缓冲层(21)粘接在抛光层(3)上,所述下缓冲层(22)粘接在支撑层(1)上,所述上缓冲层(21)和下缓冲层(22)相连接。
4.根据权利要求3所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫,其特征在于,所述下缓冲层(22)的表面设置有弹性凸起(221),所述弹性凸起(221)等间距均匀分布,所述上缓冲层(21)上设置有与弹性凸起(221)相匹配的缓冲槽,所述上缓冲层(21)和下缓冲层(22)通过弹性凸起(221)装入缓冲槽内相连接。
5.根据权利要求4所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫,其特征在于,所述抛光层(3)包括散热层(31)和磨料层(32),所述散热...
【专利技术属性】
技术研发人员:李加海,杨惠明,孙传东,
申请(专利权)人:安徽禾臣新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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