【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及压纹白垫，具体为一种用于晶体表面抛光的压纹白垫及其生产工艺。
技术介绍
1、抛光垫又称抛光皮，抛光布，抛光片，晶体表面抛光中决定表面质量的重要辅料，公开号为cn114918823b的中国专利公开了一种大尺寸衬底抛光用白垫及其生产工艺，属于抛光垫领域，在进行抛光研磨工作时，第三抛光白垫的外部受到抛光元件的挤压，受到的压力可经过三层的缓冲，可通过第一抛光垫连接板和第二抛光垫连接板内部本身的弹性，进一步提高高速研磨过程中的缓冲能力，提高抛光研磨效果，有效提升抛光的工作质量。但是，该专利存在以下缺陷：
2、现有的白垫在使用时，在抛光过程中易产生高温，其白垫散热性能差，导致白垫易损坏，使用寿命短。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种用于晶体表面抛光的压纹白垫及其生产工艺，可对压纹白垫进行高效散热，提升压纹白垫的散热性能，避免压纹白垫损坏，可提升压纹白垫的使用寿命，解决了上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，包括支撑层、弹性层和抛光层，所述抛光层粘接在弹性层的上表面，所述弹性层粘接在支撑层的上表面，其中，支撑层、弹性层和抛光层的厚度比为1:1:2-3。
4、优选的，所述支撑层包括基底层、面盖层、横向支撑筋和纵向支撑筋，所述基底层的内侧设置有横向支撑筋和纵向支撑筋，所述横向支撑筋和纵向支撑筋横纵交错分布，所述基底层的顶部设置有面盖层，所述面盖层覆盖
5、优选的，所述弹性层包括上缓冲层和下缓冲层，所述上缓冲层粘接在抛光层上，所述下缓冲层粘接在支撑层上，所述上缓冲层和下缓冲层相连接。
6、优选的，所述下缓冲层的表面设置有弹性凸起，所述弹性凸起等间距均匀分布，所述上缓冲层上设置有与弹性凸起相匹配的缓冲槽，所述上缓冲层和下缓冲层通过弹性凸起装入缓冲槽内相连接。
7、优选的，所述抛光层包括散热层和磨料层，所述散热层粘接在上缓冲层上，所述散热层粘接在磨料层的下表面上。
8、优选的，所述散热层上设置有相互连通的散热通道和散热通孔，所述散热通道横向贯穿散热层，所述散热通孔均匀分布在散热层表面。
9、优选的，所述散热层上还设置有水冷层，所述水冷层位于散热通道内，所述水冷层上设置有用于进水的进水接口和用于排水的排水接口。
10、优选的，所述水冷层的数量为2-5组，多组所述水冷层之间通过连通管相连通，每组水冷层包括水冷仓和连接管，所述水冷仓位于散热通道内，且相邻的水冷仓通过连接管相连通。
11、优选的，所述磨料层的表面设置有横槽道和纵槽道，所述横槽道和纵槽道相连通，所述磨料层包括如下质量份数的原料：水性环氧树脂胶20-40份、聚氨酯橡胶10-20份、二氧化钛2-3份、氧化锌1-2份、碳酸钙1-2份和氧化铝3-5份。
12、根据本专利技术的另一个方面，提供了一种根据上述所述的用于晶体表面抛光的压纹白垫的生产工艺，包括如下步骤：
13、s1、生产支撑层：
14、将生产好的横向支撑筋和纵向支撑筋按照生产需求加工在基底层的内侧，使横向支撑筋和纵向支撑筋横纵交错分布，且将面盖层粘接在基底层的顶部，使面盖层覆盖在横向支撑筋和纵向支撑筋上，形成支撑层；
15、s2、生产弹性层：
16、将上缓冲层按照生产需求粘接在下缓冲层上，使弹性凸起正好装入缓冲槽内，形成弹性层；
17、s3、生产抛光层：
18、在散热层上加工出相互连通的散热通道和散热通孔，且在散热通道内加工出水冷层，使多组所述水冷层之间通过连通管相连通，在磨料层的表面加工出横槽道和纵槽道，使磨料层粘接在散热层上，形成抛光层；
19、s4、生产压纹白垫：
20、将弹性层设置在支撑层上，将抛光层设置在弹性层上，经层压后，支撑层、弹性层和抛光层相互粘接，形成压纹白垫。
21、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
22、本专利技术通过在散热层上设置相互连通的散热通道和散热通孔，通过散热通孔和散热通道可将压纹白垫在抛光过程中产生的热量向外界散发出去，通过在散热通道内设置水冷层，使多组水冷层之间通过连通管相连通，通过进水接口可向水冷层内加入冷却水，通过水冷层内的冷却水可对压纹白垫进行水冷降温，进而可对压纹白垫进行高效散热，提升压纹白垫的散热性能，避免压纹白垫损坏，可提升压纹白垫的使用寿命。
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1.一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，包括支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3)，其特征在于，所述抛光层(3)粘接在弹性层(2)的上表面，所述弹性层(2)粘接在支撑层(1)的上表面，其中，支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3)的厚度比为1:1:2-3。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述支撑层(1)包括基底层(11)、面盖层(12)、横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)，所述基底层(11)的内侧设置有横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)，所述横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)横纵交错分布，所述基底层(11)的顶部设置有面盖层(12)，所述面盖层(12)覆盖在横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)上。
3.根据权利要求2所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述弹性层(2)包括上缓冲层(21)和下缓冲层(22)，所述上缓冲层(21)粘接在抛光层(3)上，所述下缓冲层(22)粘接在支撑层(1)上，所述上缓冲层(21)和下缓冲层(22)相连接。
4.根据权利要求3所述的一种用于晶体表面抛光的
5.根据权利要求4所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述抛光层(3)包括散热层(31)和磨料层(32)，所述散热层(31)粘接在上缓冲层(21)上，所述散热层(31)粘接在磨料层(32)的下表面上。
6.根据权利要求5所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述散热层(31)上设置有相互连通的散热通道(311)和散热通孔(312)，所述散热通道(311)横向贯穿散热层(31)，所述散热通孔(312)均匀分布在散热层(31)表面。
7.根据权利要求6所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述散热层(31)上还设置有水冷层(313)，所述水冷层(313)位于散热通道(311)内，所述水冷层(313)上设置有用于进水的进水接口和用于排水的排水接口。
8.根据权利要求7所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述水冷层(313)的数量为2-5组，多组所述水冷层(313)之间通过连通管(314)相连通，每组水冷层(313)包括水冷仓(3131)和连接管(3132)，所述水冷仓(3131)位于散热通道(311)内，且相邻的水冷仓(3131)通过连接管(3132)相连通。
9.根据权利要求8所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述磨料层(32)的表面设置有横槽道(321)和纵槽道(322)，所述横槽道(321)和纵槽道(322)相连通，所述磨料层(32)包括如下质量份数的原料：水性环氧树脂胶20-40份、聚氨酯橡胶10-20份、二氧化钛2-3份、氧化锌1-2份、碳酸钙1-2份和氧化铝3-5份。
10.一种根据权利要求9所述的用于晶体表面抛光的压纹白垫的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，包括支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3)，其特征在于，所述抛光层(3)粘接在弹性层(2)的上表面，所述弹性层(2)粘接在支撑层(1)的上表面，其中，支撑层(1)、弹性层(2)和抛光层(3)的厚度比为1:1:2-3。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述支撑层(1)包括基底层(11)、面盖层(12)、横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)，所述基底层(11)的内侧设置有横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)，所述横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)横纵交错分布，所述基底层(11)的顶部设置有面盖层(12)，所述面盖层(12)覆盖在横向支撑筋(13)和纵向支撑筋(14)上。
3.根据权利要求2所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述弹性层(2)包括上缓冲层(21)和下缓冲层(22)，所述上缓冲层(21)粘接在抛光层(3)上，所述下缓冲层(22)粘接在支撑层(1)上，所述上缓冲层(21)和下缓冲层(22)相连接。
4.根据权利要求3所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述下缓冲层(22)的表面设置有弹性凸起(221)，所述弹性凸起(221)等间距均匀分布，所述上缓冲层(21)上设置有与弹性凸起(221)相匹配的缓冲槽，所述上缓冲层(21)和下缓冲层(22)通过弹性凸起(221)装入缓冲槽内相连接。
5.根据权利要求4所述的一种用于晶体表面抛光的压纹白垫，其特征在于，所述抛光层(3)包括散热层(31)和磨料层(32)，所述散热...
【专利技术属性】
技术研发人员：李加海，杨惠明，孙传东，
申请(专利权)人：安徽禾臣新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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