具有处理单元的痤疮处理系统技术方案

根据一方面，提供了一种痤疮处理系统，其包括处理单元(40)和痤疮处理装置(46；52)，该痤疮处理装置(46；52)被配置为借助于波长主要在从600至700nm的范围内的第一处理光和波长主要在从400至480nm的范围内的第二处理光来处理对象的皮肤上的痤疮损伤，处理单元(40)被配置为：接收由一个或多个传感器(42)提供的一个或多个测量信号，该一个或多个传感器(42)被配置和布置为测量指示痤疮损伤的炎症程度和/或严重性阶段的一个或多个参数，该一个或多个测量信号表示痤疮损伤的所指示的炎症程度和/或所指示的严重性阶段；基于由一个或多个测量信号所表示的痤疮损伤的所指示的炎症程度和/或所指示的严重性阶段，确定要被施加到痤疮损伤的第一处理光的强度与第二处理光的强度的光强度比；并且控制痤疮处理装置(46；52)的一个或多个光源(44)，以根据所确定的光强度比来生成第一处理光和第二处理光以施加到痤疮损伤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及在对象的皮肤上对痤疮损伤的处理，并且具体地涉及一种痤疮处理系统，其包括处理单元和借助于光来处理痤疮损伤的痤疮处理装置。

技术介绍

1、个人护理设备、并且特别是面部毛发刮剃设备领域的最近焦点在于，除了由这种设备执行的诸如刮剃、脱毛、皮肤按摩等主要个人护理功能之外，还添加使该设备能够向设备的用户提供有益效果或处理的功能。

2、例如，可以通过使用个人护理设备内的红外(ir)或近红外(nir)光模块向个人护理设备的用户提供增强的感官体验。当个人护理设备在使用中执行(多个)个人护理功能时，ir或近ir光模块可以被供电以向用户提供温和的温暖和/或处理用户的皮肤。

3、个人护理设备(特别是在脸上使用的个人护理设备)可以提供的另一种处理是使用光来对痤疮进行处理。具有蓝光和红光的光疗是处理轻度至中等严重性的普通痤疮的有效手段，且没有明显的短期不良反应，该光疗结合了抗菌作用(由于针对痤疮丙酸杆细菌的最佳光致激发)和抗炎作用(由于巨噬细胞释放细胞因子)。

4、痤疮损伤可以被细分为不同类型的损伤；微粉刺、黑头粉刺、白头粉刺、丘疹、脓疱本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种痤疮处理系统，所述痤疮处理系统包括处理单元(40)和痤疮处理装置(46；52)，所述痤疮处理装置具有一个或多个光源(44)，所述一个或多个光源(44)被配置和布置为生成波长主要在从600至700nm的范围内的第一处理光和波长主要在从400至480nm的范围内的第二处理光，用于在所述痤疮处理系统的使用期间施加到对象的皮肤上的痤疮损伤，所述处理单元(40)被配置为：

2.根据权利要求1所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为：通过处理所述一个或多个测量信号来确定所述痤疮损伤的所述炎症程度和/或所述严重性阶段，并且基于所确定的炎症程度和/或所确定的严重性阶段来确...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种痤疮处理系统，所述痤疮处理系统包括处理单元(40)和痤疮处理装置(46；52)，所述痤疮处理装置具有一个或多个光源(44)，所述一个或多个光源(44)被配置和布置为生成波长主要在从600至700nm的范围内的第一处理光和波长主要在从400至480nm的范围内的第二处理光，用于在所述痤疮处理系统的使用期间施加到对象的皮肤上的痤疮损伤，所述处理单元(40)被配置为：

2.根据权利要求1所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为：通过处理所述一个或多个测量信号来确定所述痤疮损伤的所述炎症程度和/或所述严重性阶段，并且基于所确定的炎症程度和/或所确定的严重性阶段来确定所述光强度比。

3.根据权利要求2所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为：通过将所述所确定的炎症程度和/或所述所确定的严重性阶段与一个或多个阈值进行比较，或者通过使用将所述所确定的炎症程度和/或所述所确定的严重性阶段的值与所述光强度比的特定值相关联的查找表，确定所述光强度比。

4.根据权利要求1所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为直接根据所述一个或多个测量信号确定所述光强度比。

5.根据权利要求4所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为：通过将所述一个或多个测量信号与一个或多个阈值进行比较，或者通过使用将所述一个或多个测量信号的值或所述一个或多个测量信号的特性与所述光强度比的特定值相关联的查找表，确定所述光强度比。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为确定所述光强度比，以使得当所述痤疮损伤的所述所指示的炎症程度增加或所述所指示的严重性程度降低时，所述光强度比增加；以及当所述所指示的炎症程度降低或所述所指示的严重性程度增加时，所述光强度比降低。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为确定所述光强度比，使得如果所述所指示的炎症程度处于相对低的第一指示炎症值范围内，或者所述所指示的严重性处于相对高的第一指示严重性值范围内，则所述光强度比在0.5至1.7的范围内；以及使得如果所述所指示的炎症程度处于相对高的第二指示炎症值范围内，或者所述所指示的严重性处于相对低的第二指示严重性值范围内，则所述光强度比高于2。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的痤疮处理系统，其中所述处理单元(40)被配置为控制所述痤疮处理装置(46；52)的所述一个或多个光源(44)以同时生成所述第一处理光和所述第二处理光。

9.根据权利要求1-7中任一项所述的痤疮处理系...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·瓦尔格斯，Y·P·J·鲍尔奎因，J·A·帕勒洛，W·维克瑞杰斯，E·J·M·保卢斯森，K·K·苏马，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：